超純水 化学特性,用途語,生産方法
解説
電解質，有機物，ちり微粒子などの不純物を極限まで取り除いた超高純度の水。超純水は，半導体の製造，医薬品の製造などで使われる。蒸留，イオン交換法，逆浸透法などを組み合わせて製造。一般に水温25度で抵抗率が18Mオーム以上の水を指す。医療分野のほか、LSIや液晶ディスプレーの半導体素子の洗浄など、幅広く利用される。小学館 デジタル大辞泉について 情報 | 凡例
用途
技術的な極限まで不純物を取り除いた純水。工業的には，原子力発電所の蒸気発生器の給水，医薬品の製造，半導体の洗浄などに用いられる。原水の蒸留，逆浸透膜による処理，イオン交換，紫外線殺菌（→紫外線），限外ろ過など多数の工程を経て製造される。大規模集積回路 LSIなどの半導体製造において使用される超純水では，超純水の抵抗率，含まれる微粒子の粒径と数，生菌の数，有機物量，二酸化ケイ素（シリカ）や溶存酸素の量などの水質基準が定められ，不純物除去の技術開発が進められている。
超純水 上流と下流の製品情報
原材料
準備製品