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12039-87-1

中文名称 硅化钒
英文名称 VANADIUM SILICIDE
CAS 12039-87-1
分子式 Si2V
分子量 107.11
MOL 文件 12039-87-1.mol
更新日期 2024/07/22 17:29:36
12039-87-1 结构式 12039-87-1 结构式

基本信息

中文别名
硅化钒
二硅化钒
英文别名
VANADIUM SILICIDE
VANADIUM DISILICIDE
Vanadiumsilicidemesh
VANADIUM SILICIDE -325 MESH
bis(λ2-silanylidene)vanadium
VANADIUM SILICIDE: 99.5%, -325 MESH
VANADIUM SILICIDE ISO 9001：2015 REACH
bis(λ2-silanylidene)vanadium
VANADIUM SILICIDE, 99.5% (METALS BASIS)
所属类别
无机化工：硅化物及硅酸盐

物理化学性质

熔点1677 °C
密度4.420
溶解度soluble in HF
形态金属棱状
颜色金属棱状
电阻率 (resistivity)9.5 (ρ/μΩ.cm)
水溶解性soluble HF [KIR83]
晶体结构Hexagonal
EPA化学物质信息Vanadium silicide (VSi2) (12039-87-1)

安全数据

危险性符号(GHS)
GHS07
警示词警告
危险性描述H302-H315-H319-H335
防范说明P261-P280a-P304+P340-P305+P351+P338-P405-P501a
危险品标志Xi
危险类别码36/37
安全说明26-36
WGK Germany3
TSCAYes
危险等级6.1

制备方法

方法1

在一直流等离子电弧炉中，加热V和Si的单质粉末。

常见问题列表

概述
硅化物是制备大规模集成电路的关键材料，用它可以作电路的欧姆接触、肖特基势垒和电极引线，超大规模集成电路结深很浅，如64 兆位的超大规模集成电路的PN 结深度浅到200nm ，在如此浅结表面用常规的方法制备电极引线，经常导致PN 结穿通，使电路失效，为此则需要制备薄层硅化物，其中硅化钒是一种最好的选择。
用途
硅化物是制备大规模集成电路的关键材料，用它可以作电路的欧姆接触、肖特基势垒和电极引线，超大规模集成电路结深很浅.硅化钒的主要用途如下：1.制备硅化钒薄膜。2.制备一种吸声陶瓷材料。
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