593-90-8

中文名称甲基硼

英文名称 TRIMETHYLBORON

CAS 593-90-8

分子式 C3H9B

分子量 55.91

MOL 文件 593-90-8.mol

593-90-8 结构式

基本信息物理化学性质安全数据常见问题列表应用领域

基本信息

中文别名

甲基硼
三甲基硼
三甲硼[烷]

英文别名

Trimethyl borane
TRIMETHYLBORON
(CH3)3B
Borane,trimethyl-
C3H9B
trimethylborane(3)
Trimethylboroncolorlessgas
Trimethylboronelecgrcolorlessgas
TRIMETHYLBORON, 98.35+%, ELECTRONIC GRAD E
Trimethylboron,98%
Trimethylboron,elec.gr.(99.999%-B)PURATREM
99.9-B, PURATREM
TRIMETHYLBORON, ELEC. GR.
trimethylborine

物理化学性质

外观性质具自燃性的无色气体。

溶解性不溶于水，易溶于乙醇、乙醚。

熔点-161,5°C

沸点-20,2°C

密度0,625 g/cm³

形态液体

安全数据

危险性符号(GHS) GHS hazard pictograms

GHS04,GHS05

警示词危险

危险性描述H280-H314

防范说明P280-P305+P351+P338-P310-P410+P403

危险品标志F,C

危险类别码11-17-34

安全说明9-16-23-45-43-36/37/39-26-7

危险品运输编号3160

危险等级2.3

常见问题列表

概述

非晶硅太阳能电池具有制造成本低、便于大规模生产等特点，近年来得到了广泛应用，并受到人们的普遍关注。P型窗口材料的质量对太阳能电池的性能具有重要影响，改善P型材料特性是提高太阳能电池性能的有效途径。目前，非晶硅太阳能电池生产线主要用乙硼烷或者三甲基硼做掺杂剂。使用乙硼烷做掺杂剂时，材料的暗电导率和光学带隙相互制约的现象较为严重，主要是因为乙硼烷分子结构中存在B-B键和B-H键，在气相沉积过程中，这些键的结构容易生长在薄膜材料中，导致材料缺陷态密度较高，电导率的增加抑制了光学带隙的增加。
而用三甲基硼作为掺杂剂时，分子中不存在B-B键和B-H键结构，从而有效减少了材料中的缺陷态密度，提高掺杂效率。三甲基硼稳定性好，毒性较小，制成的非晶硅太阳能电池转换率高，能制备出宽光学带隙且高电导的优质P型窗口材料。从目前发展趋势看，三甲基硼比乙硼烷在非晶硅太阳能电池制备上具有更广阔的前景。

应用领域

用途1

三甲基硼主要应用于硅薄膜太阳能电池，作为P型掺杂源。目前，硅薄膜太阳能电池生产线上用三甲基硼或乙硼烷作为P型掺杂源，与乙硼烷相比，用三甲基硼掺杂可以大幅度降低P材料中的B—B键和B原子的密度，从而有效减少材料中的缺陷态密度，提高掺杂效率。由于三甲基硼稳定性好，毒性小，污染小，制成的硅薄膜太阳能电池转换率高，是能够制备出宽光学带隙且高电导的优质P型材料，从长远看有取代乙硼烷的趋势。