一氧化硅
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- CAS号:
- 10097-28-6
- 英文名:
- Silicon monoxide
- 英文别名:
- SiO;Monox;oxo-silylen;Oxosilylene;Silicon oxid;Silylene, oxo-;Siliciummonoxid;Silicon(Ⅱ) oxide;SILICON MONOXIDE;SILICON (II) OXIDE
- 中文名:
- 一氧化硅
- 中文别名:
- 氧化硅;一氧化硅;一氧化硅粉;纳米一氧化硅;氧化硅(II);氧化亚硅溅射靶;一氧化硅微粉末;一氧化硅 SIO;一氧化硅(氧化亚硅);一氧化硅,99.9%
- CBNumber:
- CB0278818
- 分子式:
- OSi
- 分子量:
- 44.09
- MOL File:
- 10097-28-6.mol
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一氧化硅性质、用途与生产工艺
一氧化硅，白色立方系晶体或棕色粉末，不溶于水，溶于稀氢氟酸与硝酸混合液，与沸苛性碱溶液作用生成硅酸盐和氢气，能被卤素氧化，在空气中表面易氧化生成二氧化硅保护膜而变得无活性，高温下有强还原性，能将水蒸气、二氧化碳、石灰石等物质还原；工业上常由二氧化硅与单质硅粉在高真空1400℃以上反应后升华制得；常用于制备光学玻璃和半导体材料。
白色立方系晶体或棕色粉末。熔点高于1702℃，沸点1880℃，相对密度2.13。硬度与硅相似。红热时也不导电。溶于稀的氢氟酸和硝酸的混合液，亦溶于浓碱溶液，并放出氢生成硅酸盐。不溶于水。在空气中表面易氧化生成二氧化硅保护膜而变得无活性。在高温下有强还原性，能将水蒸气、二氧化碳、石灰石等还原。 300～400℃时与卤素反应。只有在高于1500℃时才能稳定存在。低于1500℃时按下式反应分解。
2SiO=Si+SiO2
1.由二氧化硅与单质硅粉在高真空1400℃以上反应后升华而得。
SiO2+Si=2SiO
图1为一氧化硅合成工艺流程图
2.由碳和过量的二氧化硅加热到2000℃左右后升华而得。
SiO2+C=SiO+CO
3.在高温下用氢气还原二氧化硅，再经真空升华而制得。
H2+SiO2=SiO+H2O
用于制光学玻璃和半导体材料。
有关一氧化硅的概述、理化性质、制备方法、用途是由Chemicalbook的丁红编辑整理（2015-11-16）
化学性质
白色立方体或黄土色无定形粉末，在空气中热处理时，黄土色粉末变成白色粉末。熔点大于1702℃。沸点1880℃。相对密度2.13。不溶于水，溶于稀氢氟酸与硝酸的混酸中。
用途
一氧化硅微粉末因极富有活性，可作为精细陶瓷合成原料，如氮化硅、碳化硅精细陶瓷粉末原料。
用途
用作光学玻璃和半导体材料的制备
用途
作为精细陶瓷原料具有重要价值。也可在真空中将其蒸发，涂在光学仪器用的金属反射镜上作保护膜。还可用于制造半导体材料。也用于光学玻璃。
生产方法
将SiO2含量为99.5%的二氧化硅粉末和煤沥青粉末混合，C/SiO2混合摩尔比为2.0，混合物经减压加热处理，其温度为1600℃，压力为1.013 kPa，经还原反应生成SiO蒸气，通入氩气，将SiO蒸气凝结输送，制成0.1 μm以下的一氧化硅粉末。
SiO2+C→SiO+CO
一氧化硅
上下游产品信息
上游原料
下游产品
| 更新日期 | 产品编号 | 产品名称 | CAS编号 | 包装 | 价格 |
|---|
| 2025/02/08 | XW100972861 | 一氧化硅
silicon(ⅱ) oxide;silicon monoxide | 10097-28-6 | 25G | 161元 |
| 2025/02/08 | 51022660 | 一氧化硅
silicon(ⅱ) oxide;silicon monoxide | | 25g | 83元 |
一氧化硅
生产厂家
全球有 192家供应商
一氧化硅国内生产厂家
10097-28-6, 一氧化硅 相关搜索:
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