DI(T-BUTYLAMINO)SILANE
DI(T-BUTYLAMINO)SILANE 物理性質
- 沸点 :
- 167°C
- 比重(密度) :
- 0,816 g/cm3
- 屈折率 :
- 1.4236
- 闪点 :
- 30°C
- 酸解離定数(Pka):
- 11.91±0.70(Predicted)
- 外見 :
- 液体
- 色:
- 無色
- 比重:
- 0.816
- Sensitive :
- moisture sensitive, store cold
- Hydrolytic Sensitivity:
- 8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents
- EPAの化学物質情報:
- Silanediamine, N,N'-bis(1,1-dimethylethyl)- (186598-40-3)
安全性情報
- リスクと安全性に関する声明
- 危険有害性情報のコード(GHS)
絵表示(GHS) |
|
注意喚起語 |
|
危険有害性情報 |
コード |
危険有害性情報 |
危険有害性クラス |
区分 |
注意喚起語 |
シンボル |
P コード |
H225 |
引火性の高い液体および蒸気 |
引火性液体 |
2 |
危険 |
|
P210,P233, P240, P241, P242, P243,P280, P303+ P361+P353, P370+P378,P403+P235, P501 |
H260 |
水に触れると自然発火するおそれのある可燃性 /引火性ガスを発生 |
水反応可燃性化学品 |
1 |
危険 |
|
P223, P231+P232, P280, P335+ P334,P370+P378, P402+P404, P501 |
H315 |
皮膚刺激 |
皮膚腐食性/刺激性 |
2 |
警告 |
|
P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362 |
H319 |
強い眼刺激 |
眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 |
2A |
警告 |
|
P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P |
H335 |
呼吸器への刺激のおそれ |
特定標的臓器毒性、単回暴露; 気道刺激性 |
3 |
警告 |
|
|
|
注意書き |
P210 |
熱/火花/裸火/高温のもののような着火源から遠ざ けること。-禁煙。 |
P223 |
激しい反応と火災の発生の危険があるため、水と接 触させないこと。 |
P231+P232 |
湿気を遮断し、不活性ガス下で取り扱うこと。 |
P233 |
容器を密閉しておくこと。 |
P240 |
容器を接地すること/アースをとること。 |
P241 |
防爆型の電気機器/換気装置/照明機器/...機器を使 用すること。 |
P242 |
火花を発生させない工具を使用すること。 |
P243 |
静電気放電に対する予防措置を講ずること。 |
P280 |
保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。 |
P303+P361+P353 |
皮膚(または髪)に付着した場合:直ちに汚染された衣 類をすべて脱ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワー で洗うこと。 |
P370+P378 |
火災の場合:消火に...を使用すること。 |
P403+P235 |
換気の良い場所で保管すること。涼しいところに 置くこと。 |
P501 |
内容物/容器を...に廃棄すること。 |
|
DI(T-BUTYLAMINO)SILANE 価格
もっと(3)
メーカー |
製品番号 |
製品説明 |
CAS番号 |
包装 |
価格 |
更新時間 |
購入 |
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
|
W01SRM14-1060 |
Bis(t-butylamino)silane, 97+% BTBAS |
186598-40-3 |
1g |
¥34800 |
2024-03-01 |
購入 |
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
|
W01SRM14-1060 |
Bis(t-butylamino)silane, 97+% BTBAS |
186598-40-3 |
5g |
¥137200 |
2024-03-01 |
購入 |
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
|
W01SRM14-1060 |
Bis(t-butylamino)silane, 97+% BTBAS |
186598-40-3 |
25g |
¥547000 |
2024-03-01 |
購入 |
DI(T-BUTYLAMINO)SILANE 化学特性,用途語,生産方法
使用
Bis(t-butylamino)silane is a useful reagent, catalyst, and precursor. It is applicated in thin film deposition. Aminosilanes are the best choice as Si source for the deposition of hafnium silicates (HfSiO) and hafnium silicon oxynitrides (HfSiON).
DI(T-BUTYLAMINO)SILANE 上流と下流の製品情報
原材料
準備製品
DI(T-BUTYLAMINO)SILANE 生産企業
Global( 44)Suppliers
- 186598-40-3
- Dl(t-Butylamino)silane bis (tert-butylamino)silane
- DI-(TERT-BUTYLAMINO)SILANE
- N,N'-Bis(1,1-dimethylethyl)silanediamine
- DI(T-BUTYLAMINO)SILANE
- Bis(t-butylaMino)silane, 97+% BTBAS
- BIS(T-BUTYLAMINO)SILANE
- Bis(t-butylamino)silane, BTBAS (99.999%-Si) PURATREM
- Silanediamine, N,N'-bis(1,1-dimethylethyl)-
- Bis(t-butylamino)silane BTBAS
- DI(T-BUTYLAMINO)SILANE ISO 9001:2015 REACH
- Bis(tert-butylamino)silane
- BTBAS: [NH(C4H9)]2SiH2
- N,N'-Di-tert-butylsilanediamine
- BTBAS (99.999% - Si)
- N,N'-Di-tert-butylsilanediamine