用途
三乙基硅烷(Triethylsilane)，简写Et3SiH，是一种常见还原剂，主要用于有机硅合成，一般还原反应都是在碱性环境下进行，三乙基硅烷能Chemicalbook在TFA等酸性环境下做还原剂使用是它最大的特点。能被用于缩醛的还原，或是糖类的端位烷氧基的消去等。另外，与过渡金属催化剂一起使用可以做硅氢断裂加成。
还原反应
三乙基硅烷是有机合成中常用的温和还原剂，如 Fukuyama还原反应 中，在室温下，三乙基硅烷可以还原硫代酸酯生成醛。三乙基硅烷另一个非常重要的应用是将叔醇，苄醇，或芳基醛酮还原为烷烃。反应条件：在Bronsted酸或Lewis 酸存在下，在相对较低温度下进行（高温或太强的酸条件可能导致三乙基硅烷分解）。常用的试剂组合有：Et3SiH/TFA, Et3SiH/BF3，Et3SiH/B(C6F5)3。相比其他酸性条件，(C6F5)3只需催化量就可以顺利进行，此条件不止可以还原能形成稳定碳正离子中间体的底物，伯醇，仲醇，醚，羧酸都可还原得到相应的烷烃。
危害
三乙基硅烷与强氧化剂，强酸和强碱发生反应。
三乙基硅烷可经吸入其蒸汽被吸收到体内。短期接触三乙基硅烷，该蒸汽刺激眼睛和呼吸道。三乙基硅烷严重刺激眼睛，其轻微刺激皮肤。