メタクリル酸1-メチルシクロペンチル
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- ￥5200 - ￥18100
- 化学名: メタクリル酸1-メチルシクロペンチル
- 英語名: 1-Methylcyclopentyl methacrylate
- 別名:メタクリル酸1-メチルシクロペンチル
- CAS番号: 178889-45-7
- 分子式: C10H16O2
- 分子量: 168.23
- EINECS:
- MDL Number:MFCD31715003
2物価
選択条件：
ブランド
- 東京化成工業
パッケージ
- 1G
- 5G
- 生産者東京化成工業
- 製品番号M3228
- 製品説明 >98.0%(GC)
- 英語製品説明1-Methylcyclopentyl Methacrylate (stabilized with MEHQ) >98.0%(GC)
- 包装単位1G
- 価格￥5200
- 更新しました2024-03-01
- 購入
- 生産者東京化成工業
- 製品番号M3228
- 製品説明 >98.0%(GC)
- 英語製品説明1-Methylcyclopentyl Methacrylate (stabilized with MEHQ) >98.0%(GC)
- 包装単位5G
- 価格￥18100
- 更新しました2022-04-26
- 購入
| 生産者 | 製品番号 | 製品説明 | 包装単位 | 価格 | 更新時間 | 購入 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 東京化成工業 | M3228 | >98.0%(GC) 1-Methylcyclopentyl Methacrylate (stabilized with MEHQ) >98.0%(GC) |
1G | ￥5200 | 2024-03-01 | 購入 |
| 東京化成工業 | M3228 | >98.0%(GC) 1-Methylcyclopentyl Methacrylate (stabilized with MEHQ) >98.0%(GC) |
5G | ￥18100 | 2022-04-26 | 購入 |
プロパティ
沸点 :205.2±9.0 °C(Predicted)
比重(密度) :0.96±0.1 g/cm3(Predicted)
闪点 :74 °C
貯蔵温度 :Room temperature ( recommended cool, dark place below 15°C)
外見 :clear liquid
比重 :0.95
色 :Colorless to Light yellow
InChI :InChI=1S/C10H16O2/c1-8(2)9(11)12-10(3)6-4-5-7-10/h1,4-7H2,2-3H3
InChIKey :VSYDNHCEDWYFBX-UHFFFAOYSA-N
SMILES :C(OC1(C)CCCC1)(=O)C(C)=C
比重(密度) :0.96±0.1 g/cm3(Predicted)
闪点 :74 °C
貯蔵温度 :Room temperature ( recommended cool, dark place below 15°C)
外見 :clear liquid
比重 :0.95
色 :Colorless to Light yellow
InChI :InChI=1S/C10H16O2/c1-8(2)9(11)12-10(3)6-4-5-7-10/h1,4-7H2,2-3H3
InChIKey :VSYDNHCEDWYFBX-UHFFFAOYSA-N
SMILES :C(OC1(C)CCCC1)(=O)C(C)=C
安全情報
| 絵表示(GHS): | ||||||||
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| 注意喚起語: | ||||||||
| 危険有害性情報: |
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| 注意書き: |
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説明
1-Methylcyclopentyl methacrylate, also known as Methacrylic Acid 1-Methylcyclopentyl Ester, is a organic compound. It is commonly used as the Photoresist monomer. Photoresist (photo reactive materials) is a light-sensitive material used in several processes, such as photolithography and photoengraving, to form a patterned coating on a surface. Lithographic techniques such as deep X-ray lithography (DXRL), X-ray lithography (XRL), deep ultraviolet lithography (DUVL) and ultraviolet lithography (UVL) rely on this material[1].供給者とメーカー
Changzhou waston chemical technology Co.,Ltd
Heynova (Shanghai) New Material Technology CO., Ltd
Apeloa production Co.,Limited
Shanghai Daken Advanced Materials Co.,Ltd
Henan Tianfu Chemical Co.,Ltd.
career henan chemical co
QINGDAO HONG JIN CHEMCIAL CO.,LTD.
Shenzhen Nexconn Pharmatechs Ltd
Chongqing Chemdad Co., Ltd
Neostar United (Changzhou) Industrial Co., Ltd.