テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウム
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- ￥57200 - ￥450200
- 化学名: テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウム
- 英語名: TETRAKIS(DIMETHYLAMIDO)HAFNIUM(IV)
- 別名:テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウム;テトラキス(ジメチルアミド)ハフニウム(IV)
- CAS番号: 19782-68-4
- 分子式: C8H24HfN4
- 分子量: 354.79
- EINECS:
- MDL Number:MFCD01862473
5物価
選択条件：
ブランド
- 富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
- Sigma-Aldrich Japan
パッケージ
- 1g
- 5g
- 25g
- 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
- 製品番号W01SRM72-8000
- 製品説明テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウム
- 英語製品説明Tetrakis(dimethylamino)hafnium
- 包装単位1g
- 価格￥57200
- 更新しました2024-03-01
- 購入
- 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
- 製品番号W01SRM72-8000
- 製品説明テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウム
- 英語製品説明Tetrakis(dimethylamino)hafnium
- 包装単位5g
- 価格￥150900
- 更新しました2024-03-01
- 購入
- 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
- 製品番号W01SRM72-8000
- 製品説明テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウム
- 英語製品説明Tetrakis(dimethylamino)hafnium
- 包装単位25g
- 価格￥450200
- 更新しました2024-03-01
- 購入
- 生産者Sigma-Aldrich Japan
- 製品番号455199
- 製品説明テトラキス(ジメチルアミド)ハフニウム(IV) ≥99.99%
- 英語製品説明Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV) ≥99.99%
- 包装単位25g
- 価格￥170000
- 更新しました2024-03-01
- 購入
- 生産者Sigma-Aldrich Japan
- 製品番号666610
- 製品説明テトラキス(ジメチルアミド)ハフニウム(IV) packaged for use in deposition systems
- 英語製品説明Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV) packaged for use in deposition systems
- 包装単位25g
- 価格￥264000
- 更新しました2024-03-01
- 購入
| 生産者 | 製品番号 | 製品説明 | 包装単位 | 価格 | 更新時間 | 購入 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 富士フイルム和光純薬株式会社(wako) | W01SRM72-8000 | テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウム Tetrakis(dimethylamino)hafnium |
1g | ￥57200 | 2024-03-01 | 購入 |
| 富士フイルム和光純薬株式会社(wako) | W01SRM72-8000 | テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウム Tetrakis(dimethylamino)hafnium |
5g | ￥150900 | 2024-03-01 | 購入 |
| 富士フイルム和光純薬株式会社(wako) | W01SRM72-8000 | テトラキス(ジメチルアミノ)ハフニウム Tetrakis(dimethylamino)hafnium |
25g | ￥450200 | 2024-03-01 | 購入 |
| Sigma-Aldrich Japan | 455199 | テトラキス(ジメチルアミド)ハフニウム(IV) ≥99.99% Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV) ≥99.99% |
25g | ￥170000 | 2024-03-01 | 購入 |
| Sigma-Aldrich Japan | 666610 | テトラキス(ジメチルアミド)ハフニウム(IV) packaged for use in deposition systems Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV) packaged for use in deposition systems |
25g | ￥264000 | 2024-03-01 | 購入 |
プロパティ
融点 :26-29 °C(lit.)
沸点 :85°C/0.1mm
比重(密度) :1.098 g/mL at 25 °C
闪点 :109 °F
外見 :crystal
色 :colorless to pale yellow
比重 :1.40
Hydrolytic Sensitivity :8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents
Sensitive :moisture sensitive, store cold
InChIKey :ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N
CAS データベース :19782-68-4
沸点 :85°C/0.1mm
比重(密度) :1.098 g/mL at 25 °C
闪点 :109 °F
外見 :crystal
色 :colorless to pale yellow
比重 :1.40
Hydrolytic Sensitivity :8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents
Sensitive :moisture sensitive, store cold
InChIKey :ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N
CAS データベース :19782-68-4
安全情報
| 絵表示(GHS): |
 
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| 注意喚起語: | Danger | ||||||||||||||||||||||||||||
| 危険有害性情報: |
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| 注意書き: |
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説明
Used as precursor for atomic layer deposition of Hafnium Oxide nanolaminates, which are used as a reploacement for Silicon oxide in semiconductor devices.関連製品価格
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供給者とメーカー
Hubei Jusheng Technology Co.,Ltd.
CONIER CHEM AND PHARMA LIMITED
career henan chemical co
Fuxin Pharmaceutical
Antai Fine Chemical Technology Co.,Limited
SHANGHAI T&W PHARMACEUTICAL CO., LTD.
Hefei TNJ Chemical Industry Co.,Ltd.
Shanghai UCHEM Inc.
Shaanxi Dideu Medichem Co. Ltd
SUZHOU SENFEIDA CHEMICAL CO.,LTD