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7-カルボキシ-1-ヘプタンチオール

7-カルボキシ-1-ヘプタンチオール price.
  • ¥13800 - ¥37200
  • 化学名: 7-カルボキシ-1-ヘプタンチオール
  • 英語名: 8-Mercaptooctanoic acid
  • 別名:7-カルボキシ-1-ヘプタンチオール;8-メルカプトオクタン酸
  • CAS番号: 74328-61-3
  • 分子式: C8H16O2S
  • 分子量: 176.28
  • EINECS:
  • MDL Number:MFCD08705279
3物価
選択条件:
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • Sigma-Aldrich Japan
パッケージ
  • 10mg
  • 100mg
  • 1g
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01T02C386
  • 製品説明7-カルボキシ-1-ヘプタンチオール
  • 英語製品説明7-Carboxy-1-heptanethiol
  • 包装単位10mg
  • 価格¥13800
  • 更新しました2021-03-23
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01T02C386
  • 製品説明7-カルボキシ-1-ヘプタンチオール
  • 英語製品説明7-Carboxy-1-heptanethiol
  • 包装単位100mg
  • 価格¥37000
  • 更新しました2021-03-23
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番号675075
  • 製品説明8-メルカプトオクタン酸 95%
  • 英語製品説明8-Mercaptooctanoic acid 95%
  • 包装単位1g
  • 価格¥37200
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
生産者 製品番号 製品説明 包装単位 価格 更新時間 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01T02C386 7-カルボキシ-1-ヘプタンチオール
7-Carboxy-1-heptanethiol
10mg ¥13800 2021-03-23 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01T02C386 7-カルボキシ-1-ヘプタンチオール
7-Carboxy-1-heptanethiol
100mg ¥37000 2021-03-23 購入
Sigma-Aldrich Japan 675075 8-メルカプトオクタン酸 95%
8-Mercaptooctanoic acid 95%
1g ¥37200 2024-03-01 購入

プロパティ

沸点  :302.0±25.0 °C(Predicted)
比重(密度)  :1.0326 g/mL at 25 °C
屈折率  :n20/D 1.4808
貯蔵温度  :-20°C
酸解離定数(Pka) :4.77±0.10(Predicted)

安全情報

絵表示(GHS): GHS hazard pictograms
注意喚起語: Warning
危険有害性情報:
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 区分 注意喚起語 シンボル P コード
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319 強い眼刺激 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 2A 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
H335 呼吸器への刺激のおそれ 特定標的臓器毒性、単回暴露; 気道刺激性 3 警告 GHS hazard pictograms
注意書き:
P261 粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーの吸入を避ける こと。
P264 取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264 取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P271 屋外または換気の良い場所でのみ使用すること。
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。
P302+P352 皮膚に付着した場合:多量の水と石鹸で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場合:水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。

説明

This compound is used to produce hydrophilic SAMs. The resulting monolayers which are terminated with carboxylic acids can be further functionalizedto introduce more complex end groups. Can also be used to form a protective barrier monolayer to allow deposition of a passivating oxide layer.

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