氧化铪 溅射靶材

氧化铪 溅射靶材 基本信息

中文名称氧化铪 溅射靶材
中文同义词氧化铪 溅射靶材;氧化铪溅射靶材, 101.4MM (4.0IN) DIA X 6.35MM (0.25IN) THIC;氧化铪溅射靶材, 101.4MM (4.0IN) DIA X 6.35MM (0.25IN) THICK, 99.95% (METALS BASIS EXCLUDING ZR);氧化铪(IV)溅射靶, 101.4MM (4.0IN) 直径 X 6.35MM (0.25IN) 厚, 99.95% (METALS BASIS 去除 ZR)
英文名称HAFNIUM OXIDE
英文同义词HAFNIUM(+4)OXIDE;HAFNIUM(IV) OXIDE;Hafnium(IV) oxide sputtering target, 101.4mm (4.0in) dia x 6.35mm (0.25in) thick, 99.95% (metals basis excluding Zr);Hafnium (IV) oxide sputtering target, 101.4mm (4.0 in.) dia. x 6.35mm (0.25 in.) thick
CAS号71243-80-6
分子式HfO2
分子量210.49
EINECS号235-013-2
相关类别
Mol文件71243-80-6.mol
结构式氧化铪 溅射靶材 结构式

氧化铪 溅射靶材 性质

熔点2810 °C
密度9.68 g/mL at 25 °C(lit.)
形态粉末
EPA化学物质信息Hafnium yttrium oxide (Hf0.95Y0.09O2.05) (71243-80-6)

氧化铪 溅射靶材 用途与合成方法

安全信息

安全说明22-24/25
WGK Germany3

MSDS信息

提供商 语言
英文
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氧化铪 溅射靶材 上下游产品信息

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