高纯电子级四氟化硅（SiF4）作为电子工业重要原料之一，具有较高的氟硅比，被广泛应用于光纤、半导体或太阳能电池的生产，是电子产业核心制造业的基础。它可以高效刻蚀氮化硅、硅化钽等芯片材料，作为P型掺杂剂及外延沉积扩散硅源。特别在新一代芯片制程的高深宽比、大容量金属层间绝缘介质加工工艺中，四氟化硅作为硅源可以达到较高的化学沉积速率，制成更优越的低介电常数SiO2薄膜。另外，四氟化硅也是光导纤维制造工艺的主要原料和光纤行业中硅基半导体离子注入制程的关键成分。
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