BUFFERED OXIDE ETCHANTS (BOE)10:1 15:1 100:1

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更新日期	2022-05-06

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中文名称:BUFFERED OXIDE ETCHANTS (BOE)10:1 15:1 100:1	英文名称:BUFFERED OXIDE ETCHANTS (BOE)
保存条件: 常温避光通风保存	产品类别: 蚀刻剂

加HF改进的缓冲剂

（氟化物―二氟化物－氢氟酸缓冲剂）

本品为加有HF且HF活度稳定的性能改进的缓冲剂，用于平面钝化、制作晶体管、集成电路、二极管、检波器、SCR、MOS、FET的半导体技术中选择溶解SiO₂。

独特的优点

·经济便宜，使用方便

·HF活度稳定

·良好的工艺重复性

·不会出现边下蚀被掩蔽的氧化物

·不扩散硅表面着色

·硅表面不污染

·光刻胶涂层不受影响

说明

缓冲剂－HF是一个理想的缓冲剂配方，其特点是缓冲指数高和蚀刻速率均匀合适。缓冲剂－HF的组成可通过HF活度和PH的测量得到精密控制。质量平衡对应于两配体单核络合物的HF+(F)+2(HF₂)，而变化平衡是(H⁺)-(F)+(HF₂^-)。HF的活度通过其特定平衡常数保持恒定不变，这便决定了氟化物、二氟化物和HF诸组分间的平衡反应。而第二平衡常数参与氢离子浓度的浓度调节。

缓冲剂－HF制备并经分析确定已基本完全去除了任何杂质。硝酸根离子是引起扩散硅表面着色的最常见的杂质，在这种缓冲剂中已特别加以排除。能引起装置质量降低的重金属杂质在生产过程中得到了严格控制。

缓冲剂-HF的性质

外观	澄清液体
硝酸盐	无
比重	1.12
缓冲蚀刻能力	65mg，SiO₂/ml
PH	5.0
蚀刻速率，20℃	800 Å /分
游离HF	10⁵M
贮存	室温保存，在10℃以下会结晶析出
主要离子	HF₂配体
重金属	0.5ppm

*蚀刻速率根据氧化硅膜结构而改变

缓冲剂－HF的使用

缓冲剂－HF能深解在硅表面上制出的并在光印刷术中暴光的二氧化硅膜（热生长和硅烷SiO₂）。它还能溶解半导体加工过程形成的磷二氧化硅和硼二氧化硅玻璃中的掺杂二氧化硅膜，总化学反应式为：4HF+SiO₂ → SiF₄+2H₂O 建议在制作半导体平面和台面型二极管装置的新技术中使用缓冲剂－HF，操作安全无误，它与阴，阳性光刻胶都相匹配。易于得到重现性良好的结果，不会出现边下蚀被掩蔽的氧化物、表面着色和重金属造成质量降级等现象。

指导意见

大多数实际氧化物钝化层厚度范围是2000 Å到5000 Å，将其在室温下于缓冲剂－HF液中浸泡2-5分钟都会得到良好的结果，必要时接触时间可适当增减。操作完毕，应当用去离子水将缓冲剂-HF冲洗掉。缓冲剂-HF的缓冲指数高，因此在固定接触时间条件下反复使用。为了增快蚀刻速率（约2X），可以在35℃的温度使用缓冲剂-HF。

二氧化硅厚度与反射颜色的关系

颜色		厚度	Å X 10³
灰色、黄褐色、褐色	0.1	0.3	0.5	--	--
蓝色	0.8	1.5	3.0	4.9	6.9
紫色	1.0	2.7	4.7	6.5	--
绿色	1.9	3.3	5.2	7.2	--
黄色	2.1	3.7	5.6	7.5	--
橙色	2.2	4.0	6.0	--	--
红色	2.5	4.4	6.3	--	--

关键字：二氧化硅蚀刻剂蚀刻液 BOE;

公司简介

美国Transene蚀刻剂（蚀刻液，腐蚀液）中国供应商。金蚀刻剂8148，TFA；钽蚀刻剂SIE—8607；铝蚀刻剂，A型；银蚀刻剂TFS；钯蚀刻剂TFP；铬蚀刻剂1020；加HF改进的缓冲剂；BOE； Transene 超声洗涤剂TUD；镍蚀刻剂TFB；氮化钽蚀刻剂；钛蚀刻剂TFT；铜蚀刻剂；镍铬蚀刻剂TFC和TFN；TFM钼蚀刻和TFW钨蚀刻剂；半导体蚀刻剂；氧化锡/铟锡蚀刻剂TE100；

成立日期	2016-09-21 （8年）	注册资本	100.000000万
员工人数	10-50人	年营业额	￥ 100万以内
主营行业	化学试剂,医药中间体,合成材料中间体,其他中间体,液晶中间体	经营模式	贸易,工厂,试剂,定制,服务

烟台科瑞尔化学科技有限公司

非会员

公司成立：8年
注册资本：100.000000万
企业类型：有限责任公司
主营产品：吩嗪酰胺类等
公司地址：山东省烟台市芝罘区海港路29号1506室

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