PECVD设备微波等离子化学气相沉积系统

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发货地	上海
更新日期	2024-07-11

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中文名称:PECVD设备微波等离子化学气相沉积系统

产品类别: 沉积系统 PECVD等离子化学气相沉积系统

微波等离子化学气相沉积系统概述：NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜，至大可达6” 直径的基片上，该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子，具有分形气流分布的优势，样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.使用250l/sec涡轮分子泵及3.5 cfm的机械泵，腔体可以达到低至10-7 torr的真空。

标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个MFC
带有气体分布系统的平面中空阴极等离子源使得系统可以满足广大范围的要求，无论是等离子强度、均匀度，还是要分别激活某些活性组份
系统可以覆盖z广的可能性来获得各种沉积参数。

微波PECVD.png

微波等离子化学气相沉积系统应用：

等离子诱导表面改性：就是通常所说的用等离子实现表面改性(如亲水性、疏水性等)
等离子清洗：去除有机污染物
等离子聚合：对材料表面产生聚合反应
沉积二氧化硅、氮化硅、DLC(类金刚石)，以及其它薄膜
CNT(碳纳米管)和石墨烯的选择性生长：在需要的位置生长CNT或石墨烯。

微波等离子化学气相沉积系统特点：

立式系统
自动上下载片，带预真空锁
不锈钢或铝制腔体
极限真空可达10-7Torr
RF淋浴头，HCD或微波等离子源
高达6”(150mm)直径的样品台
RF射频偏压样品台
水冷样品台
可加热到的800 °C样品台
加热的气体管路
加热的液体传送单元
抗腐蚀的涡轮分子泵组
z大可支持到8MFC
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
菜单驱动，4级密码访问保护
完整的安全联锁

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公司简介

那诺-马斯特中国有限公司成立于2015年4月，是服务大中华区(包含中国大陆，香港，台湾和澳门)的客户，同时我们在中国大陆设有专门的服务办公室，提供销售和售后技术服务。那诺-马斯特中国的主要产品包括薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等等。Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国，该公司是法国那诺-马斯特有限公司于1992年在美国所创立的全资子公司，是一家国际领先的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式更名。自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备，正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD，用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD，溅射镀膜(反应溅、共溅、组合溅)，热蒸发和电子束蒸发，离子束刻蚀和反应离子刻蚀，原子层沉积，兆声清洗以及光刻胶剥离等。三十年左右的时间内Nano-Master已经发展成为全球薄膜设备的供应商，已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发中心和国家重点实验室。我们聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务

成立日期	2015-04-17 （10年）	注册资本	100万人民币
员工人数	1-10人	年营业额	￥ 1000万-5000万
主营行业	其他仪器耗材	经营模式	定制