4,6-二甲基嘧啶,4,6-DIMETHYLPYRIMIDINE
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4,6-二甲基嘧啶; 新品

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发货地 湖北
更新日期 2024-11-18
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产品详情

中文名称:4,6-二甲基嘧啶英文名称:4,6-DIMETHYLPYRIMIDINE
CAS:1558-17-4品牌: 瑞和宁
产地: 武汉保存条件: 常温保存
纯度规格: 98%产品类别: 医药中间体
级别: 医药级
2024-11-18 4,6-二甲基嘧啶 4,6-DIMETHYLPYRIMIDINE 1克 千克/RMB;2克 千克/RMB;2克 千克/RMB 瑞和宁 武汉 常温保存 98% 医药中间体

 4,6-二甲基嘧啶名称

中文名4,6-二甲基嘧啶
英文名4,6-Dimethylpyrimidine
中文别名4.6-二甲基嘧啶
英文别名更多

 4,6-二甲基嘧啶物理化学性质

密度1.0±0.1 g/cm3
沸点154.0±0.0 °C at 760 mmHg
熔点28 °C
分子式C6H8N2
分子量108.141
闪点56.0±5.1 °C
精确质量108.068748
PSA25.78000
LogP0.59
外观性状透明淡黄色液体在熔点后
蒸汽压4.2±0.2 mmHg at 25°C
折射率1.504
储存条件

保持贮藏器密封、储存在阴凉、干燥的地方,确保工作间有良好的通风或排气装置

稳定性

如果遵照规格使用和储存则不会分解,未有已知危险反应,避免氧化物

分子结构

1、 摩尔折射率:32.08

2、 摩尔体积(m3/mol):108.4

3、 等张比容(90.2K):270.8

4、 表面张力(dyne/cm):38.9

5、 介电常数:无可用

6、 偶极距(10   -24cm 3):无可用

7、 极化率:12.71

计算化学

1.疏水参数计算参考值(XlogP):无

2.氢键供体数量:0

3.氢键受体数量:2

4.可旋转化学键数量:0

5.互变异构体数量:无

6.拓扑分子极性表面积25.8

7.重原子数量:8

8.表面电荷:0

9.复杂度:64.9

10.同位素原子数量:0

11.确定原子立构中心数量:0

12.不确定原子立构中心数量:0

13.确定化学键立构中心数量:0

14.不确定化学键立构中心数量:0

15.共价键单元数量:1

更多

1. 性状:无色液体。

2. 密度(g/mL,25/4℃): 0.98

3. 相对蒸汽密度(g/mL,空气=1):未确定

4. 熔点(ºC):未确定

5. 沸点(ºC,常压):154

6. 沸点(ºC,5.2kPa): 未确定

7. 折射率: 1.490

8. 闪点(ºC): 46

9. 比旋光度(º): 未确定

10. 自燃点或引燃温度(ºC): 未确定

11. 蒸气压(kPa,25ºC): 未确定

12. 饱和蒸气压(kPa,60ºC): 未确定

13. 燃烧热(KJ/mol):未确定

14. 临界温度(ºC): 未确定

15. 临界压力(KPa): 未确定

16. 油水(辛醇/水)分配系数的对数值: 未确定

17. 爆炸上限(%,V/V):未确定

18. 爆炸下限(%,V/V): 未确定

19. 溶解性:未确定


关键字: 4,6-二甲基嘧啶;4,6-DIMETHYLPYRIMIDI;1558-17-4;

公司简介

湖北诺迪纳生物技术有限公司(以下简称诺迪纳)是一家科研、开发、生产和销售为一体的科技型企业,公司自成立以来一直以一个年轻富有活力的精英团队为核心,秉承着“诚信为本,服务至上,质量第一”的企业理念,依托优异地理位置及一流的科技、物流资源,为国内外各大高校、药厂及科研单位提供最优质的产品与服务。 诺迪纳注重产品的不断开发,建立了专业的研发实验室,集中了一批稳定的合作工厂,依托标准化的生产车间和设备,可以为用户提供涵盖生命科学、有机化学、材料科学、分析化学及其他学科在内的全面的一站式的采购方案,提供克级至吨位级的产品和服务。 诺迪纳秉承着“诚信为本,服务至上,质量第一”的企业理念建立了科学的质量管理、严格的质量控制、专业的产品包装、充足的现货储备和高效的物流服务,以保证提供给客户的是我们最好的服务及最优质的产品。我们愿与新老客户真诚合作,携手并进,共创双赢的未来。
成立日期 2021-06-15 (4年) 注册资本 300万
员工人数 50-100人 年营业额 ¥ 500万-1000万
主营行业 中间体,医药原料 经营模式 贸易,工厂,试剂,定制,服务
  • 湖北诺迪纳生物技术有限公司
VIP 3年
  • 公司成立:4年
  • 注册资本:300万
  • 企业类型:有限责任公司(自然人投资或控股)
  • 主营产品:医药中间体,化学原料、生物试剂等等
  • 公司地址:武汉东湖新技术开发区光谷大道特1号国际企业中心三期1栋4层03号G54室(自贸区武汉片区)
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