高纯硼粒，高纯硼靶，高纯硼粉，熔炼用高纯硼

磁控溅射靶材

薄膜太阳能电池行业，磁存储行业，工具行业，装饰行业提供高品质靶材）

高纯单质金属溅射靶材（3N-6N）：铝靶Al，铬靶Cr，铜靶Cu，镍靶Ni，硅靶Si，锗靶Ge，

铌靶Nb，钛钯Ti，铟靶In，银靶Ag，锡靶Sn，石墨靶C，钽靶Ta，钼靶Mo，金靶Au，

铪靶Hf，锰靶Mn，锆靶Zr，镁靶Mg，锌靶Zn，铅靶Pb，铱靶Ir，钇靶Y，铈靶Ce，

镧靶La，镱靶Yb，钆靶Gd，铂靶Pt等高纯单质金属溅射靶材。

高密度陶瓷溅射靶材（3N-5N）：ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化镁靶MgO、氧化钇靶Y2O3，

氧化铁靶Fe2O3,氧化镍靶Ni2O3，氧化铬靶Cr2O3、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化镉靶CdS，

硫化钼靶MoS2，二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化锆靶ZrO2、五氧化二铌靶Nb2O5、

二氧化钛靶TiO2,二氧化铪靶HfO2，二硼化钛靶TiB2，二硼化锆靶ZrB2，三氧化钨靶WO3，

三氧化二铝靶Al2O3，五氧化二钽靶Ta2O5、氟化镁靶MgF2、硒化锌靶ZnSe、氮化铝靶AlN，

氮化硅靶Si3N4，氮化硼靶BN，氮化钛靶TiN，碳化硅靶SiC，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、

钛酸镧靶等高密度陶瓷溅射靶材.

  备注：CNM生产的陶瓷靶材采用世界最先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术，相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

高纯合金溅射靶材：镍钒合金靶Ni-V，镍铬合金靶Ni-Cr，钛铝合金靶Ti-Al，硅铝合金靶Si-Al，铜铟合金靶Cu-In，铜镓合金靶Cu-Ga，铜铟镓合金靶Cu-In –Ga，铜铟镓硒靶Cu-In –Ga-Se，不锈钢靶，锌铝合金靶Zn-Al，钨钛 W-Ti，铁钴 Fe-Co，白铜靶等高纯合金溅射靶材。

  备注：CNM生产的高纯合金溅射靶材：晶粒度小150-60um，相对密度高（99-99.9%），纯度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

真空镀膜材料

（镀制：复合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，气敏传感器膜，高温介质膜，光学膜，激光装置滤光片，保护膜，透明导电膜，变色膜，优良的宽带增透膜，磁性薄膜，可见光区增透膜，红外增透膜，分光膜，多层膜，高反射膜，电阻膜，热反射膜，冷光膜膜）

高品质真空镀膜材料（4N-5N）：

1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,

 一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3

  等高纯氧化物镀膜材料。

2.氟化物：氟化钕NbF3,氟化钡BaF2，氟化铈CeF3，氟化镁MgF2，氟化镧LaF3，氟化钇YF3，

  氟化镱YbF3，氟化铒ErF3等高纯氟化物。

3.其它化合物：硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，

  钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，硫化镉CdS等真空镀膜材料。

4.金属镀膜材料：高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银Ag，

  高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂Pt，高纯锗Ge，高纯镍Ni,高纯金Au，

  金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，铜铟镓合金CuInGa，

  铜铟镓硒合金CuInGaSe，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。

  备注：CNM生产的真空镀膜材料均通过SGS认证，纯度高，溅点少，放气量小，薄膜均匀，附着力强，抗腐蚀性强，颜色均匀   等优点。

高纯材料

（产品广泛应用于半导体和电子行业的基础材料，光学，航天，原子能工业，电子，光电子，太阳能电池，装饰，合金添加剂等各类科学研究和工业生产领域）

1. 高纯金属(纯度：3N-8N,规格：颗粒，片状，丝状，块状，粉末状，靶材)：

高纯铝,高纯铜，高纯铬，高纯钴，高纯金，高纯银，高纯铂，高纯铪，高纯钨，高纯钼，

高纯硅，高纯锗，高纯锰，高纯镁，高纯铌，高纯锡，高纯锌，高纯钒，高纯铁，高纯钛

，高纯锆，高纯碲，高纯镍，高纯钽，高纯镓，高纯铟，高纯钯，高纯铼，高纯镧,高纯镨,

高纯铈，高纯钆,高纯铱，高纯铑，高纯铽,高纯钬,高纯钇,高纯镱,高纯铥，高纯铕，高纯钬，

高纯铽等高纯金属材料。

2.高纯氧化物(纯度：3N-6N,规格：颗粒，片状，丝状，块状，粉末状，靶材)：

     一氧化硅，SiO,二氧化硅，SiO2，二氧化铪，HfO2,二氧化锆，ZrO2,一氧化钛,TiO，二氧化钛，

TiO2,三氧化二钛，Ti2O3,五氧化三钛，Ti3O5，五氧化二钽，Ta2O5，五氧化二铌，Nb2O5，

三氧化二铝，Al2O3,三氧化二钪，Sc2O3，三氧化二铟，In2O3,二氧化铈，CeO2，氧化镁，MgO,

三氧化钨，WO3，氧化铜,CuO,氧化铁,Fe2O3,氧化钐，Sm2O3，氧化钕，Nd2O3，氧化镧，La2O3，

氧化钇，Y2O3，氧化镱，Yb2O3，氧化钆，Gd2O3,氧化镥，Lu2O3,氧化铽，Tb2O3，氧化钬，Ho2O3，

氧化铕，Eu2O3，氧化铥，Tm2O3,氧化铒，Er2O3，氧化铋，Bi2O3，氧化镨，Pr6O11，氧化锑，Sb2O3，氧化钒，V2O5，氧化镍，NiO,氧化锌，ZnO,氧化铬，Cr2O3，氧化锶，SrO等高纯氧化物

3.高纯氟化物(纯度：3N-6N,规格：颗粒，片状，丝状，块状，粉末状，靶材)：

    氟化镝DyF3，氟化钕NdF3，氟化钾KF，氟化锶SrF2，氟化钠NaF，氟化钡BaF2，氟化铅PbF2，氟化铝AlF3，氟化铈CeF4，氟化镁MgF2，氟化钐SmF3，氟化钕F3Nd，氟化镧LaF3，氟化钇YF3，氟化镱YbF3，氟化轧，氟化镥LuF3，氟化铽TbF3，氟化铥TmF3，氟化铒，氟化镨等高纯氟化物

4.其他化合物（(纯度：3N-6N,规格：颗粒，片状，丝状，块状，粉末状，靶材)：

    碳化锆，ZrC,碳化铪，HfC,碳化硅，SiC,碳化硼，B4C碳化钨WC，碳化钛,TiC,等碳化物。

硫化铜，CuS,硫化镉，GdS,硫化锌，ZnS,硫化钼，MoS,硫化锡SnS,等硫化物.氮化钛，TiN,氮化铝，AlN,氮化硅，Si3N4，氮化硼BC,等氮化物.二硼化锆，ZrB2二硼化钛，TiB2，二硼化铪，HfB2，氯氧化锆，氯氧化铪，四氯化锆，四氯化铪，硫酸氧钛，钛酸钡，钛酸锶，钛酸镧，钛酸镨，二硅化钼，硒化锌，AZO，IGZO，ITO等化合物.

   备注：CNM高纯材料采用化学精炼法，电解精炼法，电子书熔炼，区间熔炼，萃取精炼法，控制晶粒的生长形态的偏析法提纯工艺，湿法提纯，化学提纯。材料：纯度高，性能稳定，延展性好，耐腐蚀性能优良，放射性元素含量低，强度高，具有良好的加工性能。