磁控溅射靶材
薄膜太阳能电池行业,磁存储行业,工具行业,装饰行业提供高品质靶材)
高纯单质金属溅射靶材(3N-6N):铝靶Al,铬靶Cr,铜靶Cu,镍靶Ni,硅靶Si,锗靶Ge,
铌靶Nb,钛钯Ti,铟靶In,银靶Ag,锡靶Sn,石墨靶C,钽靶Ta,钼靶Mo,金靶Au,
铪靶Hf,锰靶Mn,锆靶Zr,镁靶Mg,锌靶Zn,铅靶Pb,铱靶Ir,钇靶Y,铈靶Ce,
镧靶La,镱靶Yb,钆靶Gd,铂靶Pt等高纯单质金属溅射靶材。
高密度陶瓷溅射靶材(3N-5N):ITO靶、AZO靶,IGZO靶,氧化镁靶MgO、氧化钇靶Y2O3,
氧化铁靶Fe2O3,氧化镍靶Ni2O3,氧化铬靶Cr2O3、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化镉靶CdS,
硫化钼靶MoS2,二氧化硅靶SiO2、一氧化硅靶SiO、二氧化锆靶ZrO2、五氧化二铌靶Nb2O5、
二氧化钛靶TiO2,二氧化铪靶HfO2,二硼化钛靶TiB2,二硼化锆靶ZrB2,三氧化钨靶WO3,
三氧化二铝靶Al2O3,五氧化二钽靶Ta2O5、氟化镁靶MgF2、硒化锌靶ZnSe、氮化铝靶AlN,
氮化硅靶Si3N4,氮化硼靶BN,氮化钛靶TiN,碳化硅靶SiC,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、
钛酸镧靶等高密度陶瓷溅射靶材.
备注:CNM生产的陶瓷靶材采用世界最先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术,相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。
高纯合金溅射靶材:镍钒合金靶Ni-V,镍铬合金靶Ni-Cr,钛铝合金靶Ti-Al,硅铝合金靶Si-Al,铜铟合金靶Cu-In,铜镓合金靶Cu-Ga,铜铟镓合金靶Cu-In –Ga,铜铟镓硒靶Cu-In –Ga-Se,不锈钢靶,锌铝合金靶Zn-Al,钨钛 W-Ti,铁钴 Fe-Co,白铜靶等高纯合金溅射靶材。
备注:CNM生产的高纯合金溅射靶材:晶粒度小150-60um,相对密度高(99-99.9%),纯度高(99.9-99.999%)。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。
真空镀膜材料
(镀制:复合膜,彩色膜,增透膜,透紫外膜,气敏传感器膜,高温介质膜,光学膜,激光装置滤光片,保护膜,透明导电膜,变色膜,优良的宽带增透膜,磁性薄膜,可见光区增透膜,红外增透膜,分光膜,多层膜,高反射膜,电阻膜,热反射膜,冷光膜膜)
高品质真空镀膜材料(4N-5N):
1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,
一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5,五氧化二铌Nb2O5,五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3
等高纯氧化物镀膜材料。
2.氟化物:氟化钕NbF3,氟化钡BaF2,氟化铈CeF3,氟化镁MgF2,氟化镧LaF3,氟化钇YF3,
氟化镱YbF3,氟化铒ErF3等高纯氟化物。
3.其它化合物:硫化锌ZnS,硒化锌ZnSe,氮化钛TiN,碳化硅SiC,钛酸镧LaTiO3,
钛酸钡BaTiO3,钛酸锶SrTiO3,钛酸镨PrTiO3,硫化镉CdS等真空镀膜材料。
4.金属镀膜材料:高纯铝Al,高纯铜Cu,高纯钛Ti,高纯硅Si,高纯金Au,高纯银Ag,
高纯铟In,高纯镁Mg,高纯锌Zn,高纯铂Pt,高纯锗Ge,高纯镍Ni,高纯金Au,
金锗合金AuGe,金镍合金AuNi,镍铬合金NiCr,钛铝合金TiAl,铜铟镓合金CuInGa,
铜铟镓硒合金CuInGaSe,锌铝合金ZnAl,铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。
备注:CNM生产的真空镀膜材料均通过SGS认证,纯度高,溅点少,放气量小,薄膜均匀,附着力强,抗腐蚀性强,颜色均匀 等优点。
高纯材料
(产品广泛应用于半导体和电子行业的基础材料,光学,航天,原子能工业,电子,光电子,太阳能电池,装饰,合金添加剂等各类科学研究和工业生产领域)
- 高纯金属(纯度:3N-8N,规格:颗粒,片状,丝状,块状,粉末状,靶材):
高纯铝,高纯铜,高纯铬,高纯钴,高纯金,高纯银,高纯铂,高纯铪,高纯钨,高纯钼,
高纯硅,高纯锗,高纯锰,高纯镁,高纯铌,高纯锡,高纯锌,高纯钒,高纯铁,高纯钛
,高纯锆,高纯碲,高纯镍,高纯钽,高纯镓,高纯铟,高纯钯,高纯铼,高纯镧,高纯镨,
高纯铈,高纯钆,高纯铱,高纯铑,高纯铽,高纯钬,高纯钇,高纯镱,高纯铥,高纯铕,高纯钬,
高纯铽等高纯金属材料。
2.高纯氧化物(纯度:3N-6N,规格:颗粒,片状,丝状,块状,粉末状,靶材):
一氧化硅,SiO,二氧化硅,SiO2,二氧化铪,HfO2,二氧化锆,ZrO2,一氧化钛,TiO,二氧化钛,
TiO2,三氧化二钛,Ti2O3,五氧化三钛,Ti3O5,五氧化二钽,Ta2O5,五氧化二铌,Nb2O5,
三氧化二铝,Al2O3,三氧化二钪,Sc2O3,三氧化二铟,In2O3,二氧化铈,CeO2,氧化镁,MgO,
三氧化钨,WO3,氧化铜,CuO,氧化铁,Fe2O3,氧化钐,Sm2O3,氧化钕,Nd2O3,氧化镧,La2O3,
氧化钇,Y2O3,氧化镱,Yb2O3,氧化钆,Gd2O3,氧化镥,Lu2O3,氧化铽,Tb2O3,氧化钬,Ho2O3,
氧化铕,Eu2O3,氧化铥,Tm2O3,氧化铒,Er2O3,氧化铋,Bi2O3,氧化镨,Pr6O11,氧化锑,Sb2O3,氧化钒,V2O5,氧化镍,NiO,氧化锌,ZnO,氧化铬,Cr2O3,氧化锶,SrO等高纯氧化物
3.高纯氟化物(纯度:3N-6N,规格:颗粒,片状,丝状,块状,粉末状,靶材):
氟化镝DyF3,氟化钕NdF3,氟化钾KF,氟化锶SrF2,氟化钠NaF,氟化钡BaF2,氟化铅PbF2,氟化铝AlF3,氟化铈CeF4,氟化镁MgF2,氟化钐SmF3,氟化钕F3Nd,氟化镧LaF3,氟化钇YF3,氟化镱YbF3,氟化轧,氟化镥LuF3,氟化铽TbF3,氟化铥TmF3,氟化铒,氟化镨等高纯氟化物
4.其他化合物((纯度:3N-6N,规格:颗粒,片状,丝状,块状,粉末状,靶材):
碳化锆,ZrC,碳化铪,HfC,碳化硅,SiC,碳化硼,B4C碳化钨WC,碳化钛,TiC,等碳化物。
硫化铜,CuS,硫化镉,GdS,硫化锌,ZnS,硫化钼,MoS,硫化锡SnS,等硫化物.氮化钛,TiN,氮化铝,AlN,氮化硅,Si3N4,氮化硼BC,等氮化物.二硼化锆,ZrB2二硼化钛,TiB2,二硼化铪,HfB2,氯氧化锆,氯氧化铪,四氯化锆,四氯化铪,硫酸氧钛,钛酸钡,钛酸锶,钛酸镧,钛酸镨,二硅化钼,硒化锌,AZO,IGZO,ITO等化合物.
备注:CNM高纯材料采用化学精炼法,电解精炼法,电子书熔炼,区间熔炼,萃取精炼法,控制晶粒的生长形态的偏析法提纯工艺,湿法提纯,化学提纯。材料:纯度高,性能稳定,延展性好,耐腐蚀性能优良,放射性元素含量低,强度高,具有良好的加工性能。
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