铬铝钼粉

一

金属粉

二

合金粉

1

铁基粉

2

钼基粉

3

镍基粉

三

金属陶瓷粉

1

碳化物基粉

2

碳化铬基粉

3

其它金属陶瓷粉

四

氧化物陶瓷

1

氧化铝基粉

2

氧化铬基粉

3

氧化钛基粉

4

氧化锆基粉

5

氧化钇基粉

五

封严涂层粉

牌号

名称

化学成分

制法

粒度范围

典型应用

LF101

铝粉

CP

Al99

雾化

90/45μm

修复铝、镁基工件，电磁屏蔽，导电、抗大气腐蚀，耐海水腐蚀、抗海洋环境腐蚀，工作温度160℃，涂层熔点650℃

LF131

铜粉

CP

Cu99

雾化

90/45μm

修复铜基工件，耐墨水腐蚀、非磁性、涂层较软、电磁屏蔽，导电，工作温度<150℃，涂层熔点1080℃

LF145

钼粉

AP

Mo99.5

雾化

90/38μm

涂层坚硬而耐磨，耐滑动磨损，耐摩擦磨损，抗微振磨损、抗磨损引起的沟槽、抗电腐蚀、涂层致密，可用于活塞环，同步环，泵件，柴油机喷油嘴、压配合件，阀件、齿轮、凸轮随动轴承、与铁基体的粘结层、摩擦材料、自润滑材料，靶材，工作温度<350℃

LF152

铬粉

AP

Cr99.5

电解

180/75μm

靶材，抗蚀涂层。属对健康有危害的材料，要特别注意食用安全。工作温度<800℃

LF225

镍粉
AP CP

Ni99.5

雾化

75/45μm

修复镍基工件，涂层致密、易于加工，可用于耐腐蚀。电磁屏蔽，靶材，工作温度<300℃

LF225F

镍粉
AP CP

Ni99.5

雾化

45/11μm

修复镍基工件，涂层致密、易于加工，可用于耐腐蚀。电磁屏蔽，靶材，工作温度<1300℃

LF233

钛粉

VP

Ti99.5

气雾化

180/53μm

喷涂羟基磷灰石的打底材料，用于人工植入，涂层孔隙率高，建议在真空状态下喷涂。工作温度< 400 °C

LF239

硅粉

VP

Si99.9

熔融破碎

45/15μm

高纯细颗粒硅粉，用于EBC涂层的打底层以及半导体零部件、靶材等，工作温度<1000 °C

LF141

钨粉
AP

W99.3

还原

75/15μm

可用于喷涂火箭发动机喷管、尾椎、耐火坩埚，抗金属熔体侵蚀涂层。可用于靶材。易与石墨、石英和氧化铝粘连。工作温度<1000°C