聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶
|
|
- CAS号:
- 英文名:
- polystyrene-N-(-4-hydroxyphyenyl) maleimide positive photoresist
- 英文别名:
- polystyrene-N-(-4-hydroxyphyenyl) maleimide positive photoresist
- 中文名:
- 聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶
- 中文别名:
- 聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶
- CBNumber:
- CB62127723
- 分子式:
- 分子量:
- 0
- MOL File:
- Mol file
|
|
|
聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶化学性质
聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶性质、用途与生产工艺
化学性质
一种耐240℃以上高温的正性光刻胶,用JKG-1型光刻机曝光,曝光时间为60s,1μm厚,用0.2% NaOH水溶液显影,分辨率高于1.6μm,反差为2.7。
用途
用于正性光刻胶。
聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶
上下游产品信息
上游原料
下游产品
聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶
生产厂家
聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶 相关搜索:
- 高分子材料
- 感光功能高分子材料
- 感光高分子
- 聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶
- polystyrene-N-(-4-hydroxyphyenyl) maleimide positive photoresist