聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶 基本信息
| 中文名称 | 聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶 |
|---|---|
| 中文同义词 | 聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶 |
| 英文名称 | polystyrene-N-(-4-hydroxyphyenyl) maleimide positive photoresist |
| 英文同义词 | polystyrene-N-(-4-hydroxyphyenyl) maleimide positive photoresist |
| CAS号 | |
| 分子式 | |
| 分子量 | 0 |
| EINECS号 | |
| 相关类别 | 感光高分子;感光功能高分子材料;高分子材料 |
| Mol文件 | Mol File |
| 结构式 |
聚苯乙烯-N-(4-羟基苯基)马来酰亚胺正性光刻胶 性质
化学性质
一种耐240℃以上高温的正性光刻胶，用JKG-1型光刻机曝光，曝光时间为60s，1μm厚，用0.2% NaOH水溶液显影，分辨率高于1.6μm，反差为2.7。用途
用于正性光刻胶。