りん酸トリス(トリメチルシリル)
りん酸トリス(トリメチルシリル) 物理性質
- 融点 :
- 3-4 °C (lit.)
- 沸点 :
- 228-229 °C/720 mmHg (lit.)
- 比重(密度) :
- 0.945 g/mL at 25 °C (lit.)
- 蒸気圧:
- 23.3hPa at 20℃
- 屈折率 :
- n20/D 1.409(lit.)
- 闪点 :
- 76 °F
- 貯蔵温度 :
- under inert gas (nitrogen or Argon) at 2-8°C
- 酸解離定数(Pka):
- 23-25(at 25℃)
- 外見 :
- 液体
- 比重:
- 0.959
- 色:
- Colorless to Light yellow to Light orange
- 水溶解度 :
- 935.5μg/L at 20℃
- Hydrolytic Sensitivity:
- 8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents
- BRN :
- 1794624
- LogP:
- 4.72 at 20℃
- CAS データベース:
- 10497-05-9(CAS DataBase Reference)
- EPAの化学物質情報:
- Silanol, trimethyl-, phosphate (3:1) (10497-05-9)
安全性情報
- リスクと安全性に関する声明
- 危険有害性情報のコード(GHS)
主な危険性 |
F,Xi |
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Rフレーズ |
11-36/37/38 |
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|
Sフレーズ |
16-26-36 |
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RIDADR |
UN 1993 3/PG 2 |
|
|
WGK Germany |
2 |
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RTECS 番号 |
TC9700000 |
|
|
F |
10-21 |
|
|
TSCA |
Yes |
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HSコード |
2931.90.9010 |
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国連危険物分類 |
3.2 |
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容器等級 |
III |
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消防法 |
危-4-2-III |
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化審法 |
新規公示化学物質(2011年4月1日以降届出) |
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絵表示(GHS) |
![GHS hazard pictograms](/GHS02.jpg)
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注意喚起語 |
危険 |
危険有害性情報 |
コード |
危険有害性情報 |
危険有害性クラス |
区分 |
注意喚起語 |
シンボル |
P コード |
H225 |
引火性の高い液体および蒸気 |
引火性液体 |
2 |
危険 |
![](/GHS02.jpg) |
P210,P233, P240, P241, P242, P243,P280, P303+ P361+P353, P370+P378,P403+P235, P501 |
H315 |
皮膚刺激 |
皮膚腐食性/刺激性 |
2 |
警告 |
![](/GHS07.jpg) |
P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362 |
H319 |
強い眼刺激 |
眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 |
2A |
警告 |
![](/GHS07.jpg) |
P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P |
H335 |
呼吸器への刺激のおそれ |
特定標的臓器毒性、単回暴露; 気道刺激性 |
3 |
警告 |
![](/GHS07.jpg) |
|
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注意書き |
P210 |
熱/火花/裸火/高温のもののような着火源から遠ざ けること。-禁煙。 |
P302+P352 |
皮膚に付着した場合:多量の水と石鹸で洗うこと。 |
P305+P351+P338 |
眼に入った場合:水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。 |
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りん酸トリス(トリメチルシリル) 価格
もっと(5)
メーカー |
製品番号 |
製品説明 |
CAS番号 |
包装 |
価格 |
更新時間 |
購入 |
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
|
W01FLCS21325 |
りん酸トリス(トリメチルシリル)
Tris(trimethylsilyl) phosphate |
10497-05-9 |
25g |
¥12500 |
2024-03-01 |
購入 |
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
|
W01FLCS21325 |
りん酸トリス(トリメチルシリル)
Tris(trimethylsilyl) phosphate |
10497-05-9 |
100g |
¥36300 |
2024-03-01 |
購入 |
東京化成工業
|
P1248 |
りん酸トリス(トリメチルシリル) >98.0%(GC)
Tris(trimethylsilyl) Phosphate
>98.0%(GC) |
10497-05-9 |
5g |
¥4500 |
2024-03-01 |
購入 |
東京化成工業
|
P1248 |
りん酸トリス(トリメチルシリル) >98.0%(GC)
Tris(trimethylsilyl) Phosphate
>98.0%(GC) |
10497-05-9 |
25g |
¥16200 |
2024-03-01 |
購入 |
Sigma-Aldrich Japan
|
275794 |
トリス(トリメチルシリル)ホスフェート ≥98%
Tris(trimethylsilyl) phosphate ≥98% |
10497-05-9 |
5g |
¥9080 |
2024-03-01 |
購入 |
りん酸トリス(トリメチルシリル) 化学特性,用途語,生産方法
外観
無色~うすい黄色~うすい黄赤色透明液体
化学的特性
Colorless liquid
使用
Tris(trimethylsilyl) phosphite (TMSPi) is a film-forming additive for high voltage cathode material in lithium-ion batteries. Tris (trimethylsilyl) phosphate is cleaved by alkali-metal fluorides, nitrates, and acetates at give the trimethylsilyl esters of the corresponding acids.
定義
ChEBI: Tris(trimethylsilyl) phosphate is an organosilicon compound that is phosphoric acid in which the three hydroxy groups are substituted by (trimethylsilyl)oxy groups. It is a phosphoric acid derivative and an organosilicon compound.
製造方法
Tris(trimethylsilyl)phosphine is prepared by treating trimethylsilyl chloride, white phosphorus, and sodium-potassium alloy:
1/4 P4 + 3 Me3SiCl + 3 K → P(SiMe3)3 + 3 KCl
一般的な説明
Tris(trimethylsilyl) phosphate has been investigated as a novel film-forming additive for LiNi
0.5Co
0.2Mn
0.3O
2 cycling at high cut-off potential in LiPF
6-based electrolyte.
Tris(trimethylsilyl) phosphate [
Tris(trimethylsilyl) ester of phosphoric acid] undergoes dealkylsilylation reaction with alumazene to yield heteroadamantane molecule.
反応プロフィール
Tris(trimethylsilyl)phosphine and its more reactive derivative lithium bis-(trimethylsilyl)phosphide·2tetrahydrofuran are very useful reagents for the preparation of compounds with a single or a multiple element phosphorus bond. They react readily with various element halides, with carboxylic acid chlorides, and with carboxylic esters, as well as with other organic electrophiles via a substitution of lithium and/or a cleavage of the weak polar Si-P bonds.
りん酸トリス(トリメチルシリル) 上流と下流の製品情報
原材料
準備製品
りん酸トリス(トリメチルシリル) 生産企業
Global( 254)Suppliers
りん酸トリス(トリメチルシリル) スペクトルデータ(1HNMR、13CNMR、IR1、MS、Raman)
10497-05-9(りん酸トリス(トリメチルシリル))キーワード:
- 10497-05-9
- Phosphoric acid, TMS
- Phosphoric acid, tristrimethylsilyl
- Phosphoric acid, triTMS
- Silanol,trimethyl-,phosphate(3:1)
- trimethyl-silanophosphate(3:1)
- Tris-(trimethylsilyl)fosfat
- PHOSPHORIC ACID TRIS(TRIMETHYLSILYL) ESTER
- TIMTEC-BB SBB001292
- Phosphoricacidtrimethylsilylester
- Tris(trimethylsilyl) phosphate,Phosphoric acid tris(trimethylsilyl ester)
- Tris(trimethylsilyl) phosphate >=98%
- Tris(trimethylsiloxy)phosphine oxide
- Tris(triMethylsilyl)phosphate TMSP
- Silanol,1,1,1-trimethyl-,1,1',1''-phosphate
- Tris(trimethylsilyl)Phosphate>
- Trimethylsilane phosphate
- Silanol,triChemicalbookmethyl-,phosphate(3:1)
- tritrimethylsilyl phosphate
- Phosphoric acid, tris-TMS
- Silanol, trimethyl-, phosphate (3:1)
- TRIS(TRIMETHYLSILYL) PHOSPHATE
- DK028
- Tris(trimethylsilyl)phosphate (TSP)
- TRIS(TRIMETHYSILYL)PHOSPHATE
- りん酸トリス(トリメチルシリル)
- トリス(トリメチルシリル)ホスファート
- リン酸=トリス(トリメチルシリル)
- トリス(トリメチルシリル)=ホスファート
- トリトリメチルシリル ホスファート
- トリス(トリメチルシリルオキシ)ホスフィンオキシド
- 構造分類
- 有機合成化学
- Si-O化合物
- ケイ素化合物
- ケイ素化合物 (合成用)
- シリルエステル