ケイ化チタン

ケイ化チタン 化学構造式
12039-83-7
CAS番号.
12039-83-7
化学名:
ケイ化チタン
别名:
二けい化チタン;チタン-二けい素;ケイ化チタン;二けい化チタン (平均粒径 2〜 5ΜM)
英語名:
TITANIUM SILICIDE
英語别名:
TITANIUM SILICIDE;Titanium disilicon;Titanium disilicde;TITANIUM DISILICIDE;titanium(IV) silicide;titaniumsilicide(tisi2);Titanium silicSIT8042.0;Titanium silicide, 99.5%;Titaniumsilicide(99+%-Ti);TITANIUM SILICIDE, POWDER
CBNumber:
CB9283622
化学式:
Si2Ti
分子量:
104.04
MOL File:
12039-83-7.mol

ケイ化チタン 物理性質

融点 :
1540°C
沸点 :
1540°C
比重(密度) :
4,39 g/cm3
RTECS 番号:
XR2420000
溶解性:
insoluble in H2O, acid solutions, alkaline solutions; soluble in HF
外見 :
色:
グレー
電気抵抗率 (resistivity):
123 (ρ/μΩ.cm)
水溶解度 :
フッ化水素酸に可溶。水に不溶。
Crystal Structure:
Orthorhombic
EPAの化学物質情報:
Titanium silicide (TiSi2) (12039-83-7)
安全性情報
  • リスクと安全性に関する声明
  • 危険有害性情報のコード(GHS)
RIDADR  UN3178
TSCA  Yes
国連危険物分類  4.1
容器等級  III
絵表示(GHS) GHS hazard pictogramsGHS hazard pictograms
注意喚起語
危険有害性情報
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 区分 注意喚起語 シンボル P コード
H228 可燃性固体 可燃性固体 1
2
危険
警告
GHS hazard pictograms P210, P240,P241, P280, P370+P378
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319 強い眼刺激 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 2A 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
H335 呼吸器への刺激のおそれ 特定標的臓器毒性、単回暴露; 気道刺激性 3 警告 GHS hazard pictograms
注意書き
P210 熱/火花/裸火/高温のもののような着火源から遠ざ けること。-禁煙。
P261 粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーの吸入を避ける こと。
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。
P305+P351+P338 眼に入った場合:水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。
P405 施錠して保管すること。

ケイ化チタン 価格 もっと(1)

メーカー 製品番号 製品説明 CAS番号 包装 価格 更新時間 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01W0120-1243 二けい化チタン (平均粒径 2〜 5μm) 52.2~54.7% (as Si)
Titanium Disilicide 52.2~54.7% (as Si)
12039-83-7 100g ¥4700 2018-12-26 購入

ケイ化チタン 化学特性,用途語,生産方法

外観

黒灰色の粉末

溶解性

無機酸、水及びエタノールにほとんど溶けない。

用途

非酸化物系ニューセラミック材料、耐熱・耐酸化性材料。

化学的特性

orthorhombic black powder(s), a=0.8236 nm, b=0.4773nm, c=0.8523 nm; hardness 4.5 Mohs; resistivity 123μοhm· cm can be prepared by reaction of the elements; used in special alloy applications, as a flame-resistant coating material, also as 99.5 or 99.9% pure material, as a sputtering target in the fabrication of integrated circuits [HAW93] [STR93] [CER91]

使用

Titanium silicide is used in the semiconductor industry. It is also used in the fabrication of transistors.

合成

(1) PREPARATION FROM THE ELEMENTS
Ti + 2 Si = TiSi2
The silicides are prepared by fusing or sintering intimate stoichiometric mixtures of the elements (in powder form). The reaction is carried out in sintered clay or ceramic crucibles, placed in a Tammann furnace under a blanket of Ar. In all three cases the reaction takes place at a relatively low temperature and is highly exothermic; therefore, one should work with gram quantities only.
(2) ALUMINOTHERMIC METHOD
Ignition of a mixture of, for example, 200 g. of Al powder, 250 g. of S, 180 g. of SiOa and 15 g. of TiO2 (or 40 g. of K2TiF6 ), covered with a thin layer of Mg, yields an ingot containing, in addition to Si and Al, small, iron-gray tetragonal pyramids of TiSi2 .
(3) ELECTROLYTIC PREPARATION
The pure, crystalline silicides ar e obtained by melt electrolysis of a mixture of, for example, 10K2SiF6 + TiO2 at about 900°C, using an iron cathode; alternately, electrolysis of TiO2 dissolved in a melt of silicate may be used.

ケイ化チタン 上流と下流の製品情報

原材料

準備製品


ケイ化チタン 生産企業

Global( 83)Suppliers
名前 電話番号 電子メール 国籍 製品カタログ 優位度
Hubei Jusheng Technology Co.,Ltd.
18871490254
linda@hubeijusheng.com CHINA 28172 58
Hubei xin bonus chemical co. LTD
86-13657291602
linda@hubeijusheng.com CHINA 22963 58
Career Henan Chemica Co
+86-0371-86658258 +8613203830695
laboratory@coreychem.com China 30240 58
Hefei TNJ Chemical Industry Co.,Ltd.
+86-0551-65418671 +8618949823763
sales@tnjchem.com China 34563 58
Dayang Chem (Hangzhou) Co.,Ltd.
571-88938639 +8617705817739
info@dycnchem.com China 52849 58
Henan Alfa Chemical Co., Ltd

China 13225 58
Alfa Chemistry

Info@alfa-chemistry.com United States 24072 58
Shaanxi Didu New Materials Co. Ltd
+86-89586680 +86-13289823923
1026@dideu.com China 8670 58
PT CHEM GROUP LIMITED

peter68@ptchemgroup.com China 35425 58
GIHI CHEMICALS CO.,LIMITED
+8618058761490
info@gihichemicals.com China 49978 58

12039-83-7(ケイ化チタン)キーワード:


  • 12039-83-7
  • Titanium disilicde
  • Titanium disilicon
  • Titaniumsilicide(99+%-Ti)
  • TITANIUM SILICIDE: 99.5%, -45 MICRON
  • TITANIUM SILICIDE, POWDER
  • Titanium silicide sputtering target, 76.2mm (3.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.5% (metals basis)
  • Titanium silicide, 99.5% (metals basis)
  • Titanium silicide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.5% (metals basis)
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  • Titanium silicide sputtering target, 76.2mm (3.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.5% (metals basis)
  • Titanium silicide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.5% (metals basi
  • Titanium silicide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.5% (metals basi
  • Titanium silicide sputtering target, 76.2mm (3.0in) dia x 3.18mm (0.125in) thick, 99.5% (metals basi
  • Titanium silicide sputtering target, 76.2mm (3.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.5% (metals basi
  • Titanium disilicide nanopowder, APS 20-30nm
  • Titanium silicide sputtering target, 50.8mm (2.0 in.) dia. x 6.35mm (0.250 in.) thick
  • Titanium silicide sputtering target, 76.2mm (3.0 in.) dia. x 3.18mm (0.125 in.) thick
  • titaniumsilicide(tisi2)
  • TITANIUM SILICIDE, 95%, powder
  • Titanium silicide, 99.5% trace metals basis
  • Titanium disilicide powder (TiSi2)
  • TITANIUM DISILICIDE
  • TITANIUM SILICIDE
  • Titanium silicSIT8042.0
  • Titaniumsilicidemicronpowderblackpowder
  • TITANIUM SILICIDE -325 MESH
  • bis(λ2-silanylidene)titanium
  • Ti3C2Tx (MXene) several layer
  • TITANIUM SILICIDE ISO 9001:2015 REACH
  • Titanium silicide, 99.5%
  • 二けい化チタン
  • チタン-二けい素
  • ケイ化チタン
  • 二けい化チタン (平均粒径 2〜 5ΜM)
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