ハフニウム(IV)エトキシド
ハフニウム(IV)エトキシド 物理性質
- 融点 :
- 178-180°C
- 沸点 :
- 180-200°C 13mm
- 闪点 :
- 180°C-200°C/13mm
- 外見 :
- 結晶
- 色:
- ホワイトからオフホワイト
- 水溶解度 :
- 炭化水素に溶け、ケトン、エステルと反応します。水と発熱反応する
- Sensitive :
- Moisture Sensitive
- Hydrolytic Sensitivity:
- 7: reacts slowly with moisture/water
- 暴露限界値:
- ACGIH: TWA 0.5 mg/m3
NIOSH: IDLH 50 mg/m3; TWA 0.5 mg/m3
安全性情報
- リスクと安全性に関する声明
- 危険有害性情報のコード(GHS)
| 絵表示（GHS） |
 
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| 注意喚起語 |
|
| 危険有害性情報 |
| コード |
危険有害性情報 |
危険有害性クラス |
区分 |
注意喚起語 |
シンボル |
P コード |
| H228 |
可燃性固体 |
可燃性固体 |
1
2 |
危険
警告 |
|
P210, P240,P241, P280, P370+P378 |
| H315 |
皮膚刺激 |
皮膚腐食性/刺激性 |
2 |
警告 |
|
P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362 |
| H319 |
強い眼刺激 |
眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 |
2A |
警告 |
|
P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P |
| H335 |
呼吸器への刺激のおそれ |
特定標的臓器毒性、単回暴露； 気道刺激性 |
3 |
警告 |
|
|
|
| 注意書き |
| P210 |
熱/火花/裸火/高温のもののような着火源から遠ざ けること。－禁煙。 |
| P305+P351+P338 |
眼に入った場合：水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。 |
| P337+P313 |
眼の刺激が続く場合：医師の診断/手当てを受けること。 |
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ハフニウム(IV)エトキシド 価格
もっと(4)
| メーカー |
製品番号 |
製品説明 |
CAS番号 |
包装 |
価格 |
更新時間 |
購入 |
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富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
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W01SRM72-5900 |
ハフニウム(IV)エトキシド
Hafnium(IV) Ethoxide |
13428-80-3 |
5g |
￥64100 |
2024-03-01 |
購入 |
|
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
|
W01SRM72-5900 |
ハフニウム(IV)エトキシド
Hafnium(IV) Ethoxide |
13428-80-3 |
25g |
￥254600 |
2024-03-01 |
購入 |
|
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
|
W01ALF041607 |
ハフニウムエトキシド, 99.9% (metals basis)
Hafnium ethoxide, 99.9% (metals basis) |
13428-80-3 |
5g |
￥81700 |
2024-03-01 |
購入 |
|
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
|
W01ALF041607 |
ハフニウムエトキシド, 99.9% (metals basis)
Hafnium ethoxide, 99.9% (metals basis) |
13428-80-3 |
25g |
￥302100 |
2024-03-01 |
購入 |
ハフニウム(IV)エトキシド 化学特性,用途語,生産方法
使用
Hafnium ethoxide is a chemical used in the preparation of refractory coatings. Some of the other applications include Nano-materials & Thin Films, Display & Imaging, Catalysis & Synthesis, Hybrid & Disperse Materials.
ハフニウム(IV)エトキシド 上流と下流の製品情報
原材料
準備製品
ハフニウム(IV)エトキシド 生産企業
Global( 47)Suppliers
13428-80-3(ハフニウム(IV)エトキシド)キーワード:
- 13428-80-3
- HAFNIUM TETRAMETHOXIDE
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- ハフニウムエトキシド, 99.9% (metals basis)