背景及概述[1][2]
3-氨基-5-巯基-1,2,4-三氮唑可用作医药化工合成中间体。如果吸入3-氨基-5-巯基-1,2,4-三氮唑，请将患者移到新鲜空气处；如果皮肤接触，应脱去污染的衣着，用肥皂水和清水彻底冲洗皮肤，如有不适感，就医；如果眼晴接触，应分开眼睑，用流动清水或生理盐水冲洗，并立即就医；如果食入，立即漱口，禁止催吐，应立即就医。
结构
应用[1-4]
3-氨基-5-巯基-1,2,4-三氮唑可用作医药化工合成中间体。其应用举例如下：
1. 用于制备一种光刻胶清洗液，
在通常的LED和半导体制造工艺中，通过在一些材料的表面上形成光刻胶的掩膜，曝光后进行图形转移，在得到需要的图形之后，进行下一道工序之前，需要剥去残留的光刻胶。在这个过程中要求完全除去不需要的光刻胶，同时不能腐蚀任何基材。目前，光刻胶清洗液主要由极性有机溶剂、强碱和/或水等组成，通过将半导体晶片浸入清洗液中或者利用清洗液冲洗半导体晶片，去除半导体晶片上的光刻胶。
有研究开发一种新的光刻胶清洗液，该清洗液为非水性的低蚀刻清洗液。其含有：醇胺、3-氨基-5-巯基-1，2，4-三氮唑和助溶剂。这种光刻胶清洗液可以用于LED和半导体中光刻胶去除，同时对于基材基本没有攻击如金属铝等，更为特出的是该体系具有较强的耐水性，拓宽了其操作窗口，在LED和半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。
2. 用于制备一种腈纶螯合纤维AMTF及变色纤维AMTF-PAR，
螯合纤维是一类以纤维状聚合物为载体，连接特殊功能基从而与特定物质螯合以实现分离的功能高分子，是继离子交换树脂、离子交换纤维发展起来的一种新型高性能吸 附材料。近年来，螯合纤维在金属离子的提取、分离、分析等方面的研究成为分离科学领域 的研究热点。腈纶螯合纤维AMTF的合成方法如下：以腈纶纤维为母体，以3-氨基-5-巯基-1,2,4三氮唑为配体，在氮气保护条件下，得到腈纶螯合纤维AMTF。
将腈纶螯合纤维AMTF和PAR置入甲醛水溶液中，在氮气保护条件下搅拌加热回流3-5h，于70oC搅拌反应结束，用温水冲洗后，干燥恒重，得到显色纤维AMTF-PAR。本发明合成的腈纶螯合纤维AMTF具有重金属离子吸附能力，其中，对铜离子、汞离子有较强的选择吸附性，吸附量大，吸附速度快；本发明合成的腈纶显色纤维AMTF-PAR具有足够的拉伸断裂强度以满足实际应用需求，可以适用于不同环境下的检测，能够制成不同形态的显色材料。
3. 用于制备一种用于半导体晶圆的光刻胶清洗液，
目前，光刻胶清洗液主要由极性有机溶剂、强碱和/或水等组成，通过将半导体晶 片浸入清洗液中或者利用清洗液冲洗半导体晶片，去除半导体晶片上的光刻胶。将晶片浸入该清洗液中，在40-90℃下除去金属和电介质基材上的厚膜光刻胶，其对半导体晶片基材 的腐蚀较高。随着半导体的快速发展，特别是凸球封装领域的发展，对光刻胶残留物的清洗 要求也相应提高；主要是随着在单位面积上引脚数(I/O)越来越多，光刻胶的去除也变得越来越困难。
有研究开发一种用于半导体晶圆的光刻胶清洗液，包括以下质量百分比的原料：季铵氢氧化物32-36％、醇胺14-18％、季戊四醇7-11％、六元醇6-8％、3-氨基-5-巯基-1，2，4-三氮唑0.1-1％、表面活性剂22-26％，其余为助溶剂。与现有技术相比，选用合适的季铵氢氧化物/醇胺的比例有利于协调光刻胶去除能力和金属微球的防腐蚀；采用了六元醇对金属铝和铜同时具有较强的腐蚀抑制能力；采用了醇胺作为溶剂溶解氢氧化钾和季戊四醇，去除能力强。
4. 用于制备一种改性二氧化硅纳米颗粒吸附剂。
二氧化硅纳米材料由于具有 高比表面积、成本廉价、易于合成改性、绿色环保等优点，是吸附剂材料的理想之选。首先将纳米二氧化硅颗粒和3-缩水甘油基氧基丙基三甲氧基硅烷混合均匀，然后加入到无水乙醇溶液中，回流反应后离心分离，取出固体物质，产物标记为GPTMS-SNPs；将GPTMS-SNPs加入到无水乙醇溶液中，加入聚乙烯亚胺，回流反应后离心分离得到的产物标记为PEI-SNPs。
将PEI-SNPs加入到二甲基甲酰胺中，加入氯乙酰氯，回流反应后离心分离取出固体物质，记为CAC-SNPs；将乙醇和水混合均匀得到混合溶液，将CAC-SNPs加入到混合溶液中，然后加入3-氨基-5-巯基-1,2,4-三氮唑，回流反应离心分离，得到最终改性二氧化硅纳米颗粒吸附剂。本方法原材料廉价，制备工艺简单，易与水溶液分离，具有高吸附性且可循环使用。
主要参考资料
[1] CN201110211526.0一种光刻胶清洗液
[2] CN201710158211.1新型变色纤维AMTF-PAR的制备及应用
[3] CN201710878966.9一种用于半导体晶圆的光刻胶清洗液
[4] CN201611079650.5一种改性二氧化硅纳米颗粒吸附剂、制备方法及其应用