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4-ホスホノ酪酸

4-ホスホノ酪酸 price.
  • ￥3600 - ￥25000
  • 化学名: 4-ホスホノ酪酸
  • 英語名: 4-PHOSPHONOBUTYRIC ACID
  • 別名:4-ホスホノ酪酸;(3-カルボキシプロピル)ホスホン酸
  • CAS番号: 4378-43-2
  • 分子式: C4H9O5P
  • 分子量: 168.09
  • EINECS:
  • MDL Number:MFCD00041414
価格4 プロパティ 安全情報 説明
4物価
選択条件：
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 東京化成工業
パッケージ
  • 200mg
  • 1g
  • 5g
  • 25g
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01W0232-6223
  • 製品説明4-ホスホノ酪酸 98.0+% (NMR)
  • 英語製品説明4-Phosphonobutyric Acid 98.0+% (NMR)
  • 包装単位5g
  • 価格￥7100
  • 更新しました2021-03-23
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01W0232-6223
  • 製品説明4-ホスホノ酪酸 98.0+% (NMR)
  • 英語製品説明4-Phosphonobutyric Acid 98.0+% (NMR)
  • 包装単位25g
  • 価格￥25000
  • 更新しました2018-12-26
  • 購入
  • 生産者東京化成工業
  • 製品番号P2349
  • 製品説明4-ホスホノ酪酸 >98.0%(T)
  • 英語製品説明4-Phosphonobutyric Acid >98.0%(T)
  • 包装単位200mg
  • 価格￥3600
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者東京化成工業
  • 製品番号P2349
  • 製品説明4-ホスホノ酪酸 >98.0%(T)
  • 英語製品説明4-Phosphonobutyric Acid >98.0%(T)
  • 包装単位1g
  • 価格￥12000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
生産者 製品番号 製品説明 包装単位 価格 更新時間 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01W0232-6223 4-ホスホノ酪酸 98.0+% (NMR)
4-Phosphonobutyric Acid 98.0+% (NMR)		 5g ￥7100 2021-03-23 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01W0232-6223 4-ホスホノ酪酸 98.0+% (NMR)
4-Phosphonobutyric Acid 98.0+% (NMR)		 25g ￥25000 2018-12-26 購入
東京化成工業 P2349 4-ホスホノ酪酸 >98.0%(T)
4-Phosphonobutyric Acid >98.0%(T)		 200mg ￥3600 2024-03-01 購入
東京化成工業 P2349 4-ホスホノ酪酸 >98.0%(T)
4-Phosphonobutyric Acid >98.0%(T)		 1g ￥12000 2024-03-01 購入

プロパティ

融点  :127-129°C
沸点  :465.0±47.0 °C(Predicted)
比重(密度)  :1.551±0.06 g/cm3(Predicted)
屈折率  :1.5180 (estimate)
外見  :powder to crystaline
酸解離定数(Pka) :2.36±0.10(Predicted)
色 :White to Almost white
水溶解度  :347.7g/L(20 ºC)

安全情報

絵表示(GHS): GHS hazard pictograms
注意喚起語: Danger
危険有害性情報:
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 区分 注意喚起語 シンボル P コード
H290 金属腐食のおそれ 金属腐食性物質 1 警告 GHS hazard pictograms P234, P390, P404
H314 重篤な皮膚の薬傷?眼の損傷 皮膚腐食性/刺激性 1A, B, C 危険 GHS hazard pictograms P260,P264, P280, P301+P330+ P331,P303+P361+P353, P363, P304+P340,P310, P321, P305+ P351+P338, P405,P501
注意書き:
P234 他の容器に移し替えないこと。
P260 粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーを吸入しないこ と。
P264 取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264 取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。
P390 物的被害を防止するためにも流出したものを吸収 すること。
P405 施錠して保管すること。
P406 耐腐食性/耐腐食性内張りのある．．．容器に 保管すること。
P501 内容物/容器を．．．に廃棄すること。

説明

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供給者とメーカー

Career Henan Chemica Co
Hefei TNJ Chemical Industry Co.,Ltd.
Henan Alfa Chemical Co., Ltd
Aladdin Scientific Meryer (Shanghai) Chemical Technology Co., Ltd. TCI (Shanghai) Development Co., Ltd. Shandong Xiya Chemical Co., Ltd TOKYO CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. Shanghai Xingui Biotechnology Co., Ltd. DebyeTec.com Inc.