(2S,3S)-(+)-1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)-2,3-O-イソプロピリデン-2,3-ブタンジオール

￥21300 - ￥59800
化学名: (2S,3S)-(+)-1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)-2,3-O-イソプロピリデン-2,3-ブタンジオール
英語名: (+)-DIOP
別名:(2S,3S)-(+)-1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)-2,3-O-イソプロピリデン-2,3-ブタンジオール;[(4S,5S)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン-4,5-ジイル]ビスメチレンビス(ジフェニルホスフィン);[[(4S,5S)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン-4,5-ジイル]ビス(メチレン)]ビス(ジフェニルホスフィン);[[(4S,5S)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン-4,5-ジイル]ビスメチレン]ビス(ジフェニルホスフィン);[(4S,5S)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン-4,5-ジイル]ビス(メチレン)ビス(ジフェニルホスフィン);2,2-ジメチル-4α,5β-ビス(ジフェニルホスフィノメチル)-1,3-ジオキソラン;(4S,5S)-4,5-ビス(ジフェニルホスフィノメチル)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン;(4S)-2,2-ジメチル-4α,5β-ビス(ジフェニルホスフィノメチル)-1,3-ジオキソラン;(4α,5β)-2,2-ジメチル-4,5-ビス(ジフェニルホスフィノメチル)-1,3-ジオキソラン;(4S,5S)-2,2-ジメチル-4,5-ビス[(ジフェニルホスフィノ)メチル]-1,3-ジオキソラン;2,2-ジメチル-4α,5β-ビス[(ジフェニルホスフィノ)メチル]-1,3-ジオキソラン;(4S,5S)-4,5-ビス[(ジフェニルホスフィノ)メチル]-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン;(4S,5S)-2,2-ジメチル-4,5-ビス(ジフェニルホスフィノメチル)-1,3-ジオキソラン;(+)-2,3-O-イソプロピリデン-2,3-ジヒドロキシ-1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン;(2S,3S)-(+)-2,3-O-イソプロピリデン-2,3-ジヒドロキシ-1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン;(4S,5S)-(+)-ビス(ジフェニルホスフィノメチル)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン;(4S,5S)-(+)-4,5-ビス(ジフェニルホスフィノメチル)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン, 99.5% (S,S)-DIOP(S,S)-DIOP;(4S,5S)-2,2-ジメチル-4,5-ジ(ジフェニルホスフィノメチル)-1,3-ジオキソラン;{[(4S,5S)-5-[(ジフェニルホスファニル)メチル]-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン-4-イル]メチル}ジフェニルホスファン;(+)-DIOP
CAS番号: 37002-48-5
分子式: C31H32O2P2
分子量: 498.54
EINECS:253-307-9
MDL Number:MFCD00009760

価格4 プロパティ安全情報説明

4物価

選択条件：

ブランド

富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
東京化成工業

パッケージ

250mg
1g

生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
製品番号W01W0232-2491
製品説明(2S,3S)-(+)-1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)-2,3-O-イソプロピリデン-2,3-ブタンジオール 96.0+% (GC)
英語製品説明(2S,3S)-(+)-1,4-Bis(diphenylphosphino)-2,3-O-isopropylidene-2,3-butanediol[(+)-DIOP] 96.0+% (GC)
包装単位1g
価格￥21300
更新しました2021-03-23
購入

生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
製品番号W01SRM15-2960
製品説明(4S,5S)-(+)-4,5-ビス(ジフェニルホスフィノメチル)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン, 99.5% (S,S)-DIOP(S,S)-DIOP
英語製品説明(4S,5S)-(+)-4,5-Bis(diphenylphosphinomethyl)-2,2-dimethyl-1,3-dioxolane, 99.5% (S,S)-DIOP
包装単位250mg
価格￥24500
更新しました2024-03-01
購入

生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
製品番号W01SRM15-2960
製品説明(4S,5S)-(+)-4,5-ビス(ジフェニルホスフィノメチル)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン, 99.5% (S,S)-DIOP(S,S)-DIOP
英語製品説明(4S,5S)-(+)-4,5-Bis(diphenylphosphinomethyl)-2,2-dimethyl-1,3-dioxolane, 99.5% (S,S)-DIOP
包装単位1g
価格￥59800
更新しました2024-03-01
購入

生産者東京化成工業
製品番号B1112
製品説明(2S,3S)-(+)-1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)-2,3-O-イソプロピリデン-2,3-ブタンジオール >95.0%(GC)(T)
英語製品説明(2S,3S)-(+)-1,4-Bis(diphenylphosphino)-2,3-O-isopropylidene-2,3-butanediol >95.0%(GC)(T)
包装単位1g
価格￥21800
更新しました2018-12-04
購入

生産者	製品番号	製品説明	包装単位	価格	更新時間	購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)	W01W0232-2491	(2S,3S)-(+)-1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)-2,3-O-イソプロピリデン-2,3-ブタンジオール 96.0+% (GC) (2S,3S)-(+)-1,4-Bis(diphenylphosphino)-2,3-O-isopropylidene-2,3-butanediol[(+)-DIOP] 96.0+% (GC)	1g	￥21300	2021-03-23	購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)	W01SRM15-2960	(4S,5S)-(+)-4,5-ビス(ジフェニルホスフィノメチル)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン, 99.5% (S,S)-DIOP(S,S)-DIOP (4S,5S)-(+)-4,5-Bis(diphenylphosphinomethyl)-2,2-dimethyl-1,3-dioxolane, 99.5% (S,S)-DIOP	250mg	￥24500	2024-03-01	購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)	W01SRM15-2960	(4S,5S)-(+)-4,5-ビス(ジフェニルホスフィノメチル)-2,2-ジメチル-1,3-ジオキソラン, 99.5% (S,S)-DIOP(S,S)-DIOP (4S,5S)-(+)-4,5-Bis(diphenylphosphinomethyl)-2,2-dimethyl-1,3-dioxolane, 99.5% (S,S)-DIOP	1g	￥59800	2024-03-01	購入
東京化成工業	B1112	(2S,3S)-(+)-1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)-2,3-O-イソプロピリデン-2,3-ブタンジオール >95.0%(GC)(T) (2S,3S)-(+)-1,4-Bis(diphenylphosphino)-2,3-O-isopropylidene-2,3-butanediol >95.0%(GC)(T)	1g	￥21800	2018-12-04	購入

プロパティ

融点 :86-88 °C(lit.)
比旋光度 :+26° (c 2.0, CHCl3)
沸点 :590.3±25.0 °C(Predicted)
貯蔵温度 :Store below +30°C.
外見 :Powder
色 :White
水溶解度 :Sparingly soluble in water at 25°C 2.1E-5 g/L.
Sensitive :Air Sensitive
BRN :1630280
InChIKey :VCHDBLPQYJAQSQ-LOYHVIPDSA-N
CAS データベース :37002-48-5

安全情報

絵表示(GHS):

注意喚起語:

Warning

危険有害性情報:

コード	危険有害性情報	危険有害性クラス	区分	注意喚起語	P コード
H315	皮膚刺激	皮膚腐食性/刺激性	2	警告	P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319	強い眼刺激	眼に対する重篤な損傷性/眼刺激性	2A	警告	P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
H335	呼吸器への刺激のおそれ	特定標的臓器毒性、単回暴露；気道刺激性	3	警告

注意書き:

P261	粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーの吸入を避けること。
P264	取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264	取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P271	屋外または換気の良い場所でのみ使用すること。
P280	保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用すること。
P302+P352	皮膚に付着した場合：多量の水と石鹸で洗うこと。
P305+P351+P338	眼に入った場合：水で数分間注意深く洗うこと。次にコンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外すこと。その後も洗浄を続けること。

説明

It is employed as a ligand for the in situ preparation of chiral hydrogenation catalysts. It also finds it application for the in situ preparation of chiral hydrogenation catalysts, ligand for Rh(I)-catalyzed asymmetric hydrogenation of enamides, 1,4-disilylation of α,β-unsaturated ketones, Heck reaction of alkenyl iodides, and hydroformylation of olefins.

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