テトラアセトキシシラン

￥11600 - ￥171900
化学名: テトラアセトキシシラン
英語名: SILICON TETRAACETATE
別名:テトラアセトキシシラン;四酢酸けい素;けい素テトラアセタート;けい酸四酢酸四無水物;酢酸けい素(IV);けい素四酢酸 (TECH GRADE) (HIGH PURITY ALSO AVAILABLE)
CAS番号: 562-90-3
分子式: C8H12O8Si
分子量: 264.26
EINECS:209-239-7
MDL Number:MFCD00026184

価格10 プロパティ安全情報説明

10物価

選択条件：

ブランド

富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
Sigma-Aldrich Japan

パッケージ

10g
25g
50g
100g

生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
製品番号W01CPU006953
製品説明酢酸けい素(IV)
英語製品説明Silicon(IV) acetate
包装単位10g
価格￥12900
更新しました2018-12-26
購入

生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
製品番号W01SRM93-1443
製品説明酢酸けい素(IV)
英語製品説明Silicon(IV) Acetate
包装単位25g
価格￥29700
更新しました2024-03-01
購入

生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
製品番号W01CPU006953
製品説明酢酸けい素(IV)
英語製品説明Silicon(IV) acetate
包装単位50g
価格￥51700
更新しました2018-12-26
購入

生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
製品番号W01FLCS14500
製品説明酢酸けい素(IV)
英語製品説明Silicon(IV) acetate
包装単位25g
価格￥53800
更新しました2024-03-01
購入

生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
製品番号W01FLCS14910
製品説明けい素四酢酸 (tech grade) (High purity also available)
英語製品説明Silicon Tetraacetate (tech grade) (High purity also available)
包装単位25g
価格￥53800
更新しました2024-03-01
購入

生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
製品番号W01SRM93-1443
製品説明酢酸けい素(IV)
英語製品説明Silicon(IV) Acetate
包装単位100g
価格￥88600
更新しました2024-03-01
購入

生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
製品番号W01FLCS14500
製品説明酢酸けい素(IV)
英語製品説明Silicon(IV) acetate
包装単位100g
価格￥171900
更新しました2024-03-01
購入

生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
製品番号W01FLCS14910
製品説明けい素四酢酸 (tech grade) (High purity also available)
英語製品説明Silicon Tetraacetate (tech grade) (High purity also available)
包装単位100g
価格￥171900
更新しました2024-03-01
購入

生産者Sigma-Aldrich Japan
製品番号345156
製品説明四酢酸ケイ素 98%
英語製品説明Silicon tetraacetate 98%
包装単位10g
価格￥11600
更新しました2024-03-01
購入

生産者Sigma-Aldrich Japan
製品番号345156
製品説明四酢酸ケイ素 98%
英語製品説明Silicon tetraacetate 98%
包装単位100g
価格￥44800
更新しました2024-03-01
購入

生産者	製品番号	製品説明	包装単位	価格	更新時間	購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)	W01CPU006953	酢酸けい素(IV) Silicon(IV) acetate	10g	￥12900	2018-12-26	購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)	W01SRM93-1443	酢酸けい素(IV) Silicon(IV) Acetate	25g	￥29700	2024-03-01	購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)	W01CPU006953	酢酸けい素(IV) Silicon(IV) acetate	50g	￥51700	2018-12-26	購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)	W01FLCS14500	酢酸けい素(IV) Silicon(IV) acetate	25g	￥53800	2024-03-01	購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)	W01FLCS14910	けい素四酢酸 (tech grade) (High purity also available) Silicon Tetraacetate (tech grade) (High purity also available)	25g	￥53800	2024-03-01	購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)	W01SRM93-1443	酢酸けい素(IV) Silicon(IV) Acetate	100g	￥88600	2024-03-01	購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)	W01FLCS14500	酢酸けい素(IV) Silicon(IV) acetate	100g	￥171900	2024-03-01	購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako)	W01FLCS14910	けい素四酢酸 (tech grade) (High purity also available) Silicon Tetraacetate (tech grade) (High purity also available)	100g	￥171900	2024-03-01	購入
Sigma-Aldrich Japan	345156	四酢酸ケイ素 98% Silicon tetraacetate 98%	10g	￥11600	2024-03-01	購入
Sigma-Aldrich Japan	345156	四酢酸ケイ素 98% Silicon tetraacetate 98%	100g	￥44800	2024-03-01	購入

プロパティ

融点 :111-115 °C(lit.)
沸点 :148 °C5 mm Hg(lit.)
比重(密度) :1,18 g/cm³
蒸気密度 :>1 (vs air)
闪点 :>110°C
貯蔵温度 :-20°C
溶解性 :Soluble in acetone and benzene.
外見 :crystal
色 :white
水溶解度 :soluble acetone, benzene [MER06]
Sensitive :Moisture Sensitive
Hydrolytic Sensitivity :7: reacts slowly with moisture/water
Merck :14,8498
BRN :994868
CAS データベース :562-90-3(CAS DataBase Reference)
EPAの化学物質情報 :Silicon tetraacetate (562-90-3)

安全情報

絵表示(GHS):

注意喚起語:

Danger

危険有害性情報:

コード	危険有害性情報	危険有害性クラス	区分	注意喚起語	シンボル	P コード
H314	重篤な皮膚の薬傷?眼の損傷	皮膚腐食性/刺激性	1A, B, C	危険		P260,P264, P280, P301+P330+ P331,P303+P361+P353, P363, P304+P340,P310, P321, P305+ P351+P338, P405,P501

注意書き:

P260	粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーを吸入しないこと。
P280	保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用すること。
P303+P361+P353	皮膚（または髪）に付着した場合：直ちに汚染された衣類をすべて脱ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワーで洗うこと。
P305+P351+P338	眼に入った場合：水で数分間注意深く洗うこと。次にコンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外すこと。その後も洗浄を続けること。
P363	汚染された衣類を再使用す場合には洗濯をすること。

説明

Silicon tetraacetate is used in the preparation of silicon dioxide thin films by a direct photochemical vapor deposition method. It serves as a precursor to prepare silicon complexes with monofunctional bidentate Schiff bases. It is also used as an alternative to silicon hydride and alkoxide for low-temperature silicon dioxide production. Further, it reacts with ethanol in the absence of water to get silica gel and ethyl acetate. In addition, it is employed as a sol-gel precursor.

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