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ChemicalBook > 製品カタログ > 無機化学 > 無機塩 > 水素化物、窒化物、アジド > 窒化物 > 窒化ケイ素

窒化ケイ素

窒化ケイ素 price.
  • ¥3900 - ¥289600
  • 化学名: 窒化ケイ素
  • 英語名: Silicon nitride
  • 別名:窒化ケイ素(Si3N4);窒化けい素;窒化けい素(IV)(粉末);窒化けい素、30NM;窒化けい素(IV);窒化けい素(IV), 99.3% (metals basis), typically 90% beta-phase;窒化けい素(IV), alpha-phase, 95%;窒化けい素(IV), Electronic Grade, 99.85% (metals basis), 90+% alpha-phase;窒化けい素(IV), alpha-phase, 99.9% (metals basis)
  • CAS番号: 12033-89-5
  • 分子式: N4Si3
  • 分子量: 140.2833
  • EINECS:234-796-8
  • MDL Number:MFCD00011230
39物価
選択条件:
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 関東化学株式会社(KANTO)
  • Sigma-Aldrich Japan
  • 純正化学株式会社
パッケージ
  • 4.5G
  • nist659
  • nistrm8983
  • nist1900
  • 4g
  • 10g
  • 2x10g
  • nist656
  • 25g
  • 1ea
  • 50g
  • 100g
  • 250g
  • 500g
  • 1kg
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01FLCS14700
  • 製品説明
  • 英語製品説明Silicon IV nitride Powder
  • 包装単位25g
  • 価格¥10700
  • 更新しました2020-09-21
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01W0235-2104
  • 製品説明窒化けい素、30nm 窒素 : 37.2~42.5%
  • 英語製品説明Silicon Nitride, 30nm 窒素 : 37.2~42.5%
  • 包装単位25g
  • 価格¥10700
  • 更新しました2021-03-23
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF049113
  • 製品説明窒化けい素(IV), Electronic Grade, 99.85% (metals basis), 90+% alpha-phase
  • 英語製品説明Silicon(IV) nitride, Electronic Grade, 99.85% (metals basis), 90+% alpha-phase
  • 包装単位10g
  • 価格¥11100
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF040379
  • 製品説明窒化けい素(IV), 99.3% (metals basis), typically 90% beta-phase
  • 英語製品説明Silicon(IV) nitride, 99.3% (metals basis), typically 90% beta-phase
  • 包装単位10g
  • 価格¥12300
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01SRM93-1442
  • 製品説明窒化けい素(IV)
  • 英語製品説明Silicon(IV) Nitride
  • 包装単位50g
  • 価格¥19400
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF042949
  • 製品説明窒化けい素(IV), alpha-phase, 95%
  • 英語製品説明Silicon(IV) nitride, alpha-phase, 95%
  • 包装単位50g
  • 価格¥23500
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF040379
  • 製品説明窒化けい素(IV), 99.3% (metals basis), typically 90% beta-phase
  • 英語製品説明Silicon(IV) nitride, 99.3% (metals basis), typically 90% beta-phase
  • 包装単位250g
  • 価格¥203300
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF042949
  • 製品説明窒化けい素(IV), alpha-phase, 95%
  • 英語製品説明Silicon(IV) nitride, alpha-phase, 95%
  • 包装単位1kg
  • 価格¥234500
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF014704
  • 製品説明窒化けい素(IV), alpha-phase, 99.9% (metals basis)
  • 英語製品説明Silicon(IV) nitride, alpha-phase, 99.9% (metals basis)
  • 包装単位500g
  • 価格¥289600
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF014704
  • 製品説明窒化けい素(IV), alpha-phase, 99.9% (metals basis)
  • 英語製品説明Silicon(IV) nitride, alpha-phase, 99.9% (metals basis)
  • 包装単位25g
  • 価格¥24000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF049113
  • 製品説明窒化けい素(IV), Electronic Grade, 99.85% (metals basis), 90+% alpha-phase
  • 英語製品説明Silicon(IV) nitride, Electronic Grade, 99.85% (metals basis), 90+% alpha-phase
  • 包装単位50g
  • 価格¥30000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF040379
  • 製品説明窒化けい素(IV), 99.3% (metals basis), typically 90% beta-phase
  • 英語製品説明Silicon(IV) nitride, 99.3% (metals basis), typically 90% beta-phase
  • 包装単位50g
  • 価格¥46400
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01SRM93-1442
  • 製品説明窒化けい素(IV)
  • 英語製品説明Silicon(IV) Nitride
  • 包装単位250g
  • 価格¥57200
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF014704
  • 製品説明窒化けい素(IV), alpha-phase, 99.9% (metals basis)
  • 英語製品説明Silicon(IV) nitride, alpha-phase, 99.9% (metals basis)
  • 包装単位100g
  • 価格¥67600
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF042949
  • 製品説明窒化けい素(IV), alpha-phase, 95%
  • 英語製品説明Silicon(IV) nitride, alpha-phase, 95%
  • 包装単位250g
  • 価格¥73000
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者関東化学株式会社(KANTO)
  • 製品番号49524-48
  • 製品説明窒化けい素(IV)(粉末) 98.50%
  • 英語製品説明Silicon(IV) nitride, powder 98.50%
  • 包装単位25g
  • 価格¥24000
  • 更新しました2024-07-01
  • 購入
生産者 製品番号 製品説明 包装単位 価格 更新時間 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01FLCS14700
Silicon IV nitride Powder
25g ¥10700 2020-09-21 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01W0235-2104 窒化けい素、30nm 窒素 : 37.2~42.5%
Silicon Nitride, 30nm 窒素 : 37.2~42.5%
25g ¥10700 2021-03-23 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF049113 窒化けい素(IV), Electronic Grade, 99.85% (metals basis), 90+% alpha-phase
Silicon(IV) nitride, Electronic Grade, 99.85% (metals basis), 90+% alpha-phase
10g ¥11100 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF040379 窒化けい素(IV), 99.3% (metals basis), typically 90% beta-phase
Silicon(IV) nitride, 99.3% (metals basis), typically 90% beta-phase
10g ¥12300 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01SRM93-1442 窒化けい素(IV)
Silicon(IV) Nitride
50g ¥19400 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF042949 窒化けい素(IV), alpha-phase, 95%
Silicon(IV) nitride, alpha-phase, 95%
50g ¥23500 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF040379 窒化けい素(IV), 99.3% (metals basis), typically 90% beta-phase
Silicon(IV) nitride, 99.3% (metals basis), typically 90% beta-phase
250g ¥203300 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF042949 窒化けい素(IV), alpha-phase, 95%
Silicon(IV) nitride, alpha-phase, 95%
1kg ¥234500 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF014704 窒化けい素(IV), alpha-phase, 99.9% (metals basis)
Silicon(IV) nitride, alpha-phase, 99.9% (metals basis)
500g ¥289600 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF014704 窒化けい素(IV), alpha-phase, 99.9% (metals basis)
Silicon(IV) nitride, alpha-phase, 99.9% (metals basis)
25g ¥24000 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF049113 窒化けい素(IV), Electronic Grade, 99.85% (metals basis), 90+% alpha-phase
Silicon(IV) nitride, Electronic Grade, 99.85% (metals basis), 90+% alpha-phase
50g ¥30000 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF040379 窒化けい素(IV), 99.3% (metals basis), typically 90% beta-phase
Silicon(IV) nitride, 99.3% (metals basis), typically 90% beta-phase
50g ¥46400 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01SRM93-1442 窒化けい素(IV)
Silicon(IV) Nitride
250g ¥57200 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF014704 窒化けい素(IV), alpha-phase, 99.9% (metals basis)
Silicon(IV) nitride, alpha-phase, 99.9% (metals basis)
100g ¥67600 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF042949 窒化けい素(IV), alpha-phase, 95%
Silicon(IV) nitride, alpha-phase, 95%
250g ¥73000 2024-03-01 購入
関東化学株式会社(KANTO) 49524-48 窒化けい素(IV)(粉末) 98.50%
Silicon(IV) nitride, powder 98.50%
25g ¥24000 2024-07-01 購入

プロパティ

融点  :1900 °C
比重(密度)  :3.44 g/mL at 25 °C (lit.)
屈折率  :2.8
RTECS 番号 :VW0650000
外見  :powder
色 :Pale gray
比重 :3.44
電気抵抗率 (resistivity) :10*6 (ρ/μΩ.cm)
水溶解度  :Insoluble water.
Crystal Structure :Hexagonal
Hydrolytic Sensitivity :1: no significant reaction with aqueous systems
Merck  :14,8497
安定性: :Stable.
CAS データベース :12033-89-5(CAS DataBase Reference)
EPAの化学物質情報 :Silicon nitride (Si3N4) (12033-89-5)

安全情報

絵表示(GHS): GHS hazard pictograms
注意喚起語: Warning
危険有害性情報:
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 区分 注意喚起語 シンボル P コード
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319 強い眼刺激 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 2A 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
注意書き:
P264 取扱い後は皮膚をよく洗うこと。
P264 取扱い後は手や顔をよく洗うこと。
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。
P302+P352 皮膚に付着した場合:多量の水と石鹸で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場合:水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。
P332+P313 皮膚刺激が生じた場合:医師の診断/手当てを受けるこ と。
P337+P313 眼の刺激が続く場合:医師の診断/手当てを受けること。

説明

Silicon nitride (molecular formula Si3N4) is a kind of chemical compound comprised of both silicon and nitrogen elements. It appears as a white solid with a high melting point. It is chemically stable upon the presence of dilute HF and hot H2SO4. It has a series of properties such as high strength among a wide temperature range, high fracture toughness, high hardness, outstanding wear resistance and chemical property. It has a strikingly high thermal shock resistance. It has a wide applications in various kinds of fields. In automobile industry, it is an important materials for engine parts. It can also be applied to the manufacturing of bearings due to its high shock resistance. For example, in spacecraft, silicon nitride ceramic is capable of surviving the severe thermal shock generated in the hydrogen/oxygen rocket engines. It can also be used as abrasive and cutting tools due to its harness and resistance to wear. In electronics, it can be used as an insulator and chemical barrier during the production of integrated circuits. There are several method for the manufacturing the silicon nitride. 1. The powdered silicon is subject to a heating reaction of 1300-1400 °C in the atmosphere of nitrogen. 2 Diimide route which involves the reaction of SiCl and NH3. 3 Silicon dioxide is subject to carbothemral reduction at 1300-1400 °C under the presence of nitrogen.

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