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テルル(IV)エトキシド

テルル(IV)エトキシド price.
  • ¥56200 - ¥201400
  • 化学名: テルル(IV)エトキシド
  • 英語名: TELLURIUM (IV) ETHOXIDE
  • 別名:テルル(IV)エトキシド
  • CAS番号: 2017-01-8
  • 分子式: C8H20O4Te
  • 分子量: 307.84
  • EINECS:
  • MDL Number:MFCD00270937
2物価
選択条件:
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
パッケージ
  • 2g
  • 10g
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF041105
  • 製品説明テルル(IV)エトキシド
  • 英語製品説明Tellurium(IV) ethoxide, tech. 85%, remainder ethanol
  • 包装単位2g
  • 価格¥56200
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式会社(wako)
  • 製品番号W01ALF041105
  • 製品説明テルル(IV)エトキシド
  • 英語製品説明Tellurium(IV) ethoxide, tech. 85%, remainder ethanol
  • 包装単位10g
  • 価格¥201400
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
生産者 製品番号 製品説明 包装単位 価格 更新時間 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF041105 テルル(IV)エトキシド
Tellurium(IV) ethoxide, tech. 85%, remainder ethanol
2g ¥56200 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式会社(wako) W01ALF041105 テルル(IV)エトキシド
Tellurium(IV) ethoxide, tech. 85%, remainder ethanol
10g ¥201400 2024-03-01 購入

プロパティ

融点  :>100°C
沸点  :88-90°C 2mm
比重(密度)  :1,52 g/cm3
闪点  :27°C
外見  :Liquid
比重 :1.52
水溶解度  :Decomposes in water to TeO{2}
Hydrolytic Sensitivity :7: reacts slowly with moisture/water
Sensitive  :Moisture Sensitive

安全情報

絵表示(GHS): GHS hazard pictogramsGHS hazard pictograms
注意喚起語:
危険有害性情報:
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 区分 注意喚起語 シンボル P コード
H226 引火性の液体および蒸気 引火性液体 3 警告
H302 飲み込むと有害 急性毒性、経口 4 警告 GHS hazard pictograms P264, P270, P301+P312, P330, P501
H312 皮膚に接触すると有害 急性毒性、経皮 4 警告 GHS hazard pictograms P280,P302+P352, P312, P322, P363,P501
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319 強い眼刺激 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 2A 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
H332 吸入すると有害 急性毒性、吸入 4 警告 GHS hazard pictograms P261, P271, P304+P340, P312
注意書き:
P210 熱/火花/裸火/高温のもののような着火源から遠ざ けること。-禁煙。
P261 粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーの吸入を避ける こと。
P280 保護手袋/保護衣/保護眼鏡/保護面を着用するこ と。
P303+P361+P353 皮膚(または髪)に付着した場合:直ちに汚染された衣 類をすべて脱ぐこと/取り除くこと。皮膚を流水/シャワー で洗うこと。
P305+P351+P338 眼に入った場合:水で数分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを着用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。

説明

Tellurium(IV) ethoxide could be used in sol-gel processing for the fabrication of tellurite thin films.

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