二氧化硅消光粉
中文名称 | 二氧化硅消光粉 |
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中文同义词 | 二氧化硅(IV), 99.5% (METALS BASIS);二氧化硅(IV)球;不定形二氧化硅(IV), 表面处理的, S.A. 105-130M^2/G;海砂;二氧化硅 纳米粉末 5-15 NM;硅胶干燥剂,有指示剂, ACS;二氧化硅(IV), 30%乙二醇溶液, 胶态分散体;二氧化硅(IV), 15%水胶态分散体 |
英文名称 | Silicon dioxide |
英文同义词 | NeoBLUE;Silica Gel 120, spherical;Silica Gel 60, spherical;Silica Gel 60, spherical, neutrality;Uniform Silica Microspheres;Uniform Silica Microspheres Carboxyl;LUDOX? CL-X colloidal silica;MP Silica, 32-63 μm, 60 |
CAS号 | 7631-86-9 |
分子式 | O2Si |
分子量 | 60.08 |
EINECS号 | 231-545-4 |
相关类别 | Cn硅化合物及硅酸盐;无机化工产品;无机盐;无机颜料;颜料;有机硅氧聚合物;硅烷试剂;其他加工剂;食品加工助剂;食品添加剂;分离剂;抗结剂和干燥剂;抗结剂;类金属;微粒;粉体;硅;氧化物;酸;无机化合物和盐;腐蚀和碱性试剂;微生物;专业试剂;各种化学试剂;有机化学;分析试剂;无机单元素标准溶液;物理性质;生化试剂;其他生化试剂;生化试剂-分离材料及耗材;生化试剂-其他化学试剂;日化原料;无机化工;医用原料;Siloxanes;Inorganics;Silica Gels;organofunctional catalyst support;metals scavenging agent;molecular sieves;metal oxide;Mesoporous Materials;Ceramic Science;Materials Science;Metal &Nanomaterials;New Products for Materials Research and Engineering;常规氧化物粉体-二氧化硅;原料药;氧化物-二氧化硅;生化试剂-分离试剂;医药原料;无机粉体;金属粉末;化工原料 |
Mol文件 | 7631-86-9.mol |
结构式 | ![]() |
二氧化硅消光粉 性质
熔点 | >1600 °C(lit.) |
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沸点 | >100 °C(lit.) |
密度 | 2.2-2.6 g/mL at 25 °C |
蒸气压 | 13.3hPa at 1732℃ |
折射率 | 1.46 |
闪点 | 2230°C |
储存条件 | 2-8°C |
溶解度 | 几乎不溶于水和除氢氟酸外的无机酸。它溶于碱金属氢氧化物的热溶液。 |
酸度系数(pKa) | 6.65-9.8[at 20 ℃] |
形态 | 悬浮液 |
颜色 | 白色至黄色 |
比重 | 2.2 |
PH值 | 5-8 (100g/l, H2O, 20℃)(slurry) |
气味 (Odor) | 无味 |
电阻率 (resistivity) | 1∞10*20 (ρ/μΩ.cm) |
水溶解性 | insoluble |
敏感性 | Hygroscopic |
水解敏感性 | 6: forms irreversible hydrate |
晶体结构 | Trigonal |
Merck | 14,8493 |
暴露限值 | NIOSH: IDLH 3000 mg/m3; TWA 6 mg/m3 |
稳定性 | 稳定的。 |
CAS 数据库 | 7631-86-9(CAS DataBase Reference) |
(IARC)致癌物分类 | 3 (Vol. Sup 7, 68) 1997 |
NIST化学物质信息 | Silicon(iv) oxide(7631-86-9) |
EPA化学物质信息 | Silica (7631-86-9) |
二氧化硅消光粉消光机理:无消光剂的清漆膜为镜膜平整状态。当光到达镜膜表面时,部分入射光被吸收,部分被反射,部分反射使膜有光泽。含有二氧化硅消光剂的漆膜均匀分布在漆膜中,产生一种微粗糙的表面。从涂膜截面扫描电子显微镜照片可以清楚地看到,消光颗粒均匀分布在涂膜中。当入射光到达不均匀的漆膜表面时,会产生漫反射,即散射产生低光泽的亚光和消光外观。采用高孔隙率。良好的粒径分布和合适的二氧化硅消光剂表面处理可以获得良好的消光效果。
二氧化硅消光粉易分散,可在生产过程中的任何阶段添加,应该用高速分散机分散,不能研磨,否则影响它的消光效率。如果使用德固赛消光粉OK412后引起干燥时间延长,可改用或添加OK500。其他条件不变,随着消光粉用量的增加,消光(哑光)增强。一种气相二氧化硅消光粉及其制备方案,具体步骤如下:
1、经过汽化器高温汽化后的四氯化硅气体在加热空气的介入下,连续输入二氧化硅反应器(1),加热氢气通过氢气入口连续输入二氧化硅反应器(1),氯硅烷在二氧化硅反应器(1)内的氢气、氧气燃烧的高温火焰中发生高温水解生成纳米二氧化硅,控制氯硅烷、氢气、氧气的反应比例,使氯硅烷(kg):氢气(NM3):氧气(NM3)为1:0.32:0.95;
2、反应生成的纳米二氧化硅进入聚集器(2)进行聚集,经过高温汽化后的处理剂三甲胺通过处理剂入口连续输入聚集器(2)前段,控制纳米二氧化硅、处理剂的质量比例,使纳米二氧化硅:处理剂为1:0.07;
3、经过高温汽化后的反应抑制剂乙二醇及氮气混合物通过抑制剂入口连续输入聚集器(2)末端,将处达到处理要求的纳米二氧化硅通过抑制剂中止反应进行,并在聚集器(2)内完成二氧化硅聚集,控制纳米二氧化硅、抑制剂的质量比例,使纳米二氧化硅:抑制剂为1:0.24;
4、聚集完成的二氧化硅连续输入后处理设备(3)脱除其副产物,使其4%甲醇溶液PH值达到6-8;
5、脱除副产物后的二氧化硅利用旋转给料阀连续输送至均料器(4),待均料器(4)内物料温度降低至室温时,通过旋转加料阀均匀输送至气流粉碎机(5),在气流粉碎机(5)内将二氧化硅粉碎,控制粉碎后的平均粒径D50,设定粉碎要求D50为5微米,测得其离散度为0.75;
6、经过粉碎后的二氧化硅被连续输送至缓冲罐(6),再通过旋转给料阀均匀输送至分级设备(7),对粒径为3.8微米以下及6.2微米以上的粒子进行分级去除,经过分级筛选后的二氧化硅经过出料口输送至料仓(8),包装后即得成品。
安全信息
危险品标志 | Xn,Xi |
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危险类别码 | 36/37/38-36/37-22-43-52/53-36/38 |
安全说明 | 26-37/39-36-36/37/39-36/37-61 |
职业暴露等级 | B |
职业暴露限值 | TWA: 6 mg/m3 |
海关编码 | 2811221000 |
毒性 | LC inhalation in rat: > 200gm/m3/1H |
立即威胁生命和健康浓度 | 3,000 mg/m3 |