三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]镱 基本信息
中文名称 | 三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]镱 |
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中文同义词 | 三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]镱;三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]镱(III);三[N,N-双(三甲基甲硅烷基)胺]钇;三[N,N-双(三甲基甲硅烷基)酰胺]钇;三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]钇;三[双(三甲基硅)氨基]钇;三[N,N-双(三甲基硅烷)氨基]镱;三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]钇(III) |
英文名称 | TRIS[N,N-BIS(TRIMETHYLSILYL)AMIDE]YTTRIUM (III) |
英文同义词 | YTTRIUM III TRIS[BIS(TRIMETHYLSILYLAMIDE)];YTTRIUM III TRIS(HEXAMETHYLDISILAZIDE);TRIS[N,N-BIS(TRIMETHYLSILYL)AMIDO]YTTRIUM;TRIS[N,N-BIS(TRIMETHYLSILYL)AMIDE]YTTRIUM;TRIS[N,N-BIS(TRIMETHYLSILYL)AMIDE]YTTRIUM (III);TrisbistrimethylsilylamideyttriumIIIminwhitetoof;TRIS(N,N-BIS(TRIMETHYLSILYL)AMIDE)YTTRIU;TRIS[N,N-BIS(TRIMETHYLSILYL)AMIDE]YTTRIUM (III), MIN. 98% (99.9%-Y) (REO) |
CAS号 | 41836-28-6 |
分子式 | C6H19NSi2Y |
分子量 | 250.3 |
EINECS号 | |
相关类别 | 硅烷试剂;中间体;化工原料;PrecursorsMicro/Nanoelectronics;Materials Science;New Products for Materials Research and Engineering;Precursors Packaged for Deposition SystemsVapor Deposition Precursors;Vapor Deposition Precursors;Catalysis and Inorganic Chemistry;Chemical Synthesis;Precursors by Metal;Yttrium;YttriumVapor Deposition Precursors;organometallic complexes |
Mol文件 | 41836-28-6.mol |
结构式 |
三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]镱 性质
熔点 | 161-166 °C(lit.) |
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沸点 | 105°C 10mm |
闪点 | −10 °F |
形态 | 粉末 |
颜色 | 白色至类白色 |
水溶解性 | Reacts violently with water. |
敏感性 | Air & Moisture Sensitive |
水解敏感性 | 8: reacts rapidly with moisture, water, protic solvents |
安全信息
危险品标志 | F,C |
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危险类别码 | 11-14/15-34 |
安全说明 | 16-26-36/37/39-43-45-7/8 |
危险品运输编号 | UN 3396 4.3/PG 2 |
WGK Germany | 3 |
TSCA | No |
危险等级 | 4.1 |
包装类别 | III |
提供商 | 语言 |
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英文
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中文
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英文
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更新日期 | 产品编号 | 产品名称 | CAS号 | 包装 | 价格 |
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2024/04/30 | 039578 | 三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]钇(III),98+% Tris[N,N-bis(trimethylsilyl)amide]yttrium(III), 98+% | 41836-28-6 | 1g | 2093元 |
2024/01/19 | 039578 | 三[N,N-双(三甲基硅烷)胺]钇(III),98+% Tris[N,N-bis(trimethylsilyl)amide]yttrium(III), 98+% | 41836-28-6 | 5g | 7246元 |