用途制备一种二氟化氙气相刻蚀阻挡层,包括如下步骤:(1)将二氟化氙气体喷洒到裸露的阻挡层的表面;(2)采用光束仅照射电介质层上表面的阻挡层,使电介质层上表面的阻挡层的刻蚀速率高于沟槽和连接孔侧壁上的阻挡层的刻蚀速率。本发明通过向电介质层上表面的阻挡层照射光束,提高了电介质层上表面的阻挡层的刻蚀速率,使电介质层上表面的阻挡层的刻蚀速率高于沟槽和连接孔侧壁上的阻挡层的刻蚀速率,避免沟槽和连接孔侧壁上的阻挡层过度刻蚀,提高了微观上的刻蚀均匀性,达到了更好的工艺效果。
无锡开腾能源科技有限公司
联系商家时请提及chemicalbook,有助于交易顺利完成!