高纯碳化硅

高纯碳化硅

中文名称高纯碳化硅
中文同义词碳化硅/纳米碳化硅;碳化硅结晶块;碳化硅溅射靶,50.8MM(2.0IN)DIAX6.35MM(0.250IN)THICK,99.5%(METALSBASISEXCLUDINGB);碳化硅溅射靶,76.2MM(3.0IN)DIAX6.35MM(0.250IN)THICK,99.5%(METALSBASISEXCLUDINGB);碳化硅溅射靶,76.2MM(3.0IN)DIAX3.18MM(0.125IN)THICK,99.5%(METALSBASISEXCLUDINGB);金刚砂,耐火砂;碳化硅, 600 GRINDING COMPOUND, 2OZ (57G);碳化硅, 400 GRINDING COMPOUND, 2OZ (57G)
英文名称Silicon carbide
英文同义词SILICONCARBIDEFIBRE;GRANULARSILICONCARBIDE;SILICONCARBIDEPLATELETS;SILICONCARBIDEWHISKER;SILICIUMCARBIDE;SIC UF-25 SILICON CARBIDE GRADE UF-25 - A PRODUCT OF H.C. STARCK;SIC UF-15 PREMIX COARSE SILICON CARBIDE GRADE UF-15 PREMIX COARSE - A PRODUCT OF H.C. STARCK;SIC BF-12 SILICON CARBIDE GRADE BF-12 - A PRODUCT OF H.C. STARCK
CAS号409-21-2
分子式CSi
分子量40.1
EINECS号206-991-8
相关类别镀膜材料;催化和无机化学;碳化物;;通用试剂;硅烷试剂;有机硅氧聚合物;Cn硅化合物及硅酸盐;无机化工产品;无机盐;其他无机化合物;Cw无机功能材料;硅化合物;无机化合物和盐;有机硅;Inorganics;Carbides;Ceramics;Metal and Ceramic Science;CarbidesMaterials Science;14: Si;Nanomaterials;Nanoparticles: Oxides, Nitrides, and Other CeramicsNanomaterials;Nanopowders and Nanoparticle Dispersions;metal borides and carbides;粉体;生化试剂-其他化学试剂;碳材料及碳化物粉体-碳化硅;碳化物-碳化硅;化工材料;无机化工原料;金属粉末;精细化工原料;化工原料
Mol文件409-21-2.mol
结构式高纯碳化硅 结构式

高纯碳化硅 性质

熔点2700 °C (lit.)
密度3.22 g/mL at 25 °C (lit.)
折射率2.6500
溶解度溶于熔融的氢氧化钠、氢氧化钾和铁水。
形态纳米粉体
颜色绿色
比重3.22
电阻率 (resistivity)107–200 (ρ/μΩ.cm)
水溶解性Soluble in molten alkalis (NaOH, KOH) and molten iron. Insoluble in water.
晶体结构Cubic, Sphalerite Structure - Space Group F(-4)3m
水解敏感性1: no significant reaction with aqueous systems
Merck14,8492
暴露限值ACGIH: TWA 10 mg/m3; TWA 3 mg/m3; TWA 0.1 fiber/cm3
OSHA: TWA 15 mg/m3; TWA 5 mg/m3
NIOSH: TWA 10 mg/m3; TWA 5 mg/m3
稳定性稳定
InChIKeyHBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N
(IARC)致癌物分类2A (Vol. 111) 2017
NIST化学物质信息Silicon monocarbide(409-21-2)
EPA化学物质信息Silicon carbide (409-21-2)

高纯碳化硅 用途与合成方法

碳化硅作为第三代半导体的代表材料之一,适合于制作高温、高频、抗辐射、大功率和高密度集成的电子器件。杂质含有率为500ppm以下的高纯碳化硅粉末,被广泛用作抛光或磨削材、陶瓷烧结体和导电性材料等工业用材料。

高纯碳化硅.jpg

高纯碳化硅粉末以及可以廉价、大量且安全地制造高纯碳化硅粉末的方法。杂质含有率为500ppm以下的高纯碳化硅粉末。该碳化硅粉末为硅酸质原料和碳质原料混合而成的碳化硅制造用原料,通过利用艾奇逊炉4的发热体2对碳质原料与硅酸质原料的混合摩尔比(C/SiO2)为2.5~4.0且杂质含有率为120ppm以下的碳化硅制造用原料进行加热,可以得到该高纯碳化硅粉末。

1.对高纯碳化硅粉体合成工艺的机理进行深入研究,特别是加强对粉体粒度、形状、粒径分布以及纯度等参数进行有效控制的基础理论研究。

2.进一步加强对改进自蔓延法合成碳化硅粉体的具体工艺的研究,以期在低成本和工序简单的基础上,制备出质量优良和纯度较高的适合于单晶碳化硅生长的高纯碳化硅粉体,从而有效提高碳化硅单晶衬底生长质量,推动我国碳化硅基器件产业的发展。

安全信息

危险品标志Xi
危险类别码36/37/38
安全说明26-36
职业暴露等级B
职业暴露限值TWA: 10 mg/m3 (total)
WGK Germany3
RTECS号VW0450000
TSCAYes
海关编码28492000
毒害物质数据409-21-2(Hazardous Substances Data)

MSDS信息

提供商 语言
英文
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中文
英文
更新日期产品编号产品名称CAS号包装价格
2024/04/30036265碳化硅, 99.5% (metals basis)
Silicon carbide, 99.5% (metals basis)
409-21-210g267元
2024/04/3043884碳化硅, beta-phase, 纳米粉, 95% min
Silicon carbide, beta-phase, nanopowder, 95% min
409-21-25g526元
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