氧化铪新闻专题
氧化铪薄膜的特性与应用
由于晶体管器件尺寸的不断减小,作为MOSFET中栅极氧化物,氧化硅已经渐渐不能满足要求,2000年代中期氧化铪作为取代物渐渐出现在研究人员视线中 [i],该材料是一种高k介电材料,也是少数与硅能保持热力学稳定的二元氧化物之一。因此,它可以自然地集成在逻辑元件和存储器设备中。例如,英特尔早在2007年就已经宣布在其处理器中加入铪基高k金属栅极[ii]。这种新型晶体管配方承诺能降低功耗,减少漏电,并在降低尺度的同时能保证良好的性能。
2020/9/4 10:27:08
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氧化铪的主要应用
氧化铪不溶于水和一般无机酸,但在氢氟酸中缓慢溶解。与热的浓硫酸或酸式硫酸盐作用形成硫酸铪[Hf(SO4)2],与碳混合后加热通氯生成四氯化铪(HfCl4),与氟硅酸钾作用生成氟铪酸钾(K2HfF6),与碳在1,500℃以上作用形成碳化铪HfC。由铪的碳化物、四氯化物、硫化物、硼化物、氮化物或水合氧化物直接高温灼烧制取。
2020/3/26 8:24:04
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